Shallow-Etch Mesa Isolation of Graded-Bandgap “W”-Structured Type II Superlattice Photodiodes

Aifer, E. H. ; Warner, J. H. ; Canedy, C. L. ; Vurgaftman, I. ; Jackson, E. M. ; Tischler, J. G. ; Meyer, J. R. ; Powell, S. P. ; Olver, K. ; Tennant, W. E.

Journal of electronic materials, 2010-07, Vol.39 (7), p.1070-1079 [Periódico revisado por pares]

Boston: Springer US

Texto completo disponível