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Avaliação de processos oxidativos avançados fotoquímicos para degradação de compostos fenólicos em solução aquosa

Letícia Veloso Ribeiro da Silva Ewerton Shimara Pires Ferrão; Cláudio Augusto Oller do Nascimento 1952-; Antonio Carlos S. C Teixeira 1966-; Congresso Brasileiro de Engenharia Química em Iniciação Científica (7 São Carlos 2007)

VII COBEQ-IC: programação e resumos, São Carlos: DEQ-UFSCAR, 2007

Acesso online

Título:
Avaliação de processos oxidativos avançados fotoquímicos para degradação de compostos fenólicos em solução aquosa
Autor: Letícia Veloso Ribeiro da Silva
Ewerton Shimara Pires Ferrão; Cláudio Augusto Oller do Nascimento 1952-; Antonio Carlos S. C Teixeira 1966-; Congresso Brasileiro de Engenharia Química em Iniciação Científica (7 São Carlos 2007)
Assuntos: COMPOSTOS ORGÂNICOS; EFLUENTES (TRATAMENTO); FOTOQUÍMICA; OXIDAÇÃO (PROCESSOS); REATORES QUÍMICOS; POLUIÇÃO DA ÁGUA (TRATAMENTO)
É parte de: VII COBEQ-IC: programação e resumos, São Carlos: DEQ-UFSCAR, 2007
Notas: Disponível em: http://www.ufscar.br/cobeqic07/pdf/oral/g5.pdf
Editor: São Carlos DEQ-UFSCAR
Data de criação/publicação: 2007
Formato: res.G-5.; On-line.
Idioma: Português

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