skip to main content
Idioma:

Influence of residual water on magnetron sputter deposited crystalline Al 2 O 3 thin films

Wallin, Erik ; Andersson, Jon Martin ; Lattemann, Martina ; Helmersson, Ulf

Thin solid films, 2008, Vol.516 (12), p.3877 [Periódico revisado por pares]

Texto completo disponível

Citações Citado por
Voltar para lista de resultados

  • Realização: ABCD-USP USP   Logos de Redes Sociais: Freepik

Buscando em bases de dados remotas. Favor aguardar.