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Avaliação da adsorção de compostos orgânicos por filmes finos metálicos
Alexsander Tressino de Carvalho Maria Lucia Pereira da Silva 1957-
2004
Localização:
EPBC - Esc. Politécnica-Bib Central
(FD-3768 )
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Título:
Avaliação da adsorção de compostos orgânicos por filmes finos metálicos
Autor:
Alexsander Tressino de Carvalho
Maria Lucia Pereira da Silva 1957-
Assuntos:
FILMES FINOS
;
ADSORÇÃO
;
ESPECTROSCOPIA INFRAVERMELHA
;
ESPECTROSCOPIA RAMAN
Notas:
Dissertação (Mestrado)
Notas Locais:
Microeletrônica
Descrição:
Este trabalho analisou filmes finos de Au, Ag e Cu depositados em substrato com alta rugosidade para adsorção de compostos orgânicos. Medidas de ângulo de contato e microscopia óptica foram utilizadas para verificar afinidade dos filmes por compostos orgânicos, Espectroscopia de Infravermelho por Transformada de Fourier (FTIR) e Microscopia Raman para análise de adsorção, e Microscopia de Força Atômica (AFM), para análise da rugosidade de filmes e substrato. Cavidades utilizando silício rugoso e/ou filmes finos para adsorção foram testadas por microbalança de quartzo (QCM). Para todos os filmes, medidas de ângulo de contato mostraram valores próximos a 80° para água e a molhabilidade da superfície com medidas com soluções aquosas de compostos orgânicos. Análises de FTIR e Raman mostraram adsorção por solução aquosa de acetofenona para filmes de Cu e Au e ftalocianina de cobalto para filmes de Ag. Medidas de microbalança de quartzo dos filmes depositados em cavidades seladas mostraram adsorção de compostos orgânicos por. Testes de voltametria em filmes de Cu mostraram irreversibilidade da superfície do filme após o uso de compostos orgânicos. Estes resultados mostram que os filmes atuam como microeletrodos, favorecendo a adsorção e podendo aumentar o sinal obtido por espectroscopia Raman, resultado importante para o desenvolvimento de análises químicas
Data de criação/publicação:
2004
Formato:
114 p.
Idioma:
Português
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