40 keV shaped electron beam lithography for LIGA intermediate mask fabrication

Lüttge, R. ; Adam, D. ; Burkhardt, F. ; Hoke, F. ; Schacke, H. ; Schmidt, M. ; Wolf, H. ; Schmidt, A.

Microelectronic engineering, 1999-05, Vol.46 (1), p.247-250 [Periódico revisado por pares]

Amsterdam: Elsevier B.V

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