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A study of strain in thin epitaxial films of yttrium silicide on Si(111)

Siegal, Michelle F. ; Martínez-Miranda, L. J. ; Santiago-Avilés, J. J. ; Graham, W. R. ; Siegal, M. P.

Journal of applied physics, 1994-02, Vol.75 (3), p.1517-1520 [Periódico revisado por pares]

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