Influence of process parameters on the growth of pure-phase anatase and rutile TiO2 thin films deposited by low temperature reactive magnetron sputtering

Toku, H. ; Pessoa, R.S. ; Maciel, H.S. ; Massi, M. ; Mengui, U.A.

Brazilian journal of physics, 2010-09, Vol.40 (3), p.340-343 [Periódico revisado por pares]

Sociedade Brasileira de Física

Texto completo disponível