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Comparative studies of physical and chemical properties of plasma-treated CVD low k SiOCH dielectrics

Tsang, C.F. ; Su, Y.J. ; Bliznetsov, V.N.

Thin solid films, 2004-09, Vol.462 (Complete), p.269-274 [Periódico revisado por pares]

Elsevier B.V

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