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Desenvolvimento de um procedimento para produção de filme de óxido de silício por PECVD a ser utilizado como protetor de polímeros

Patrícia Schmid Calvão Nicole Raymonde Demarquette 1966-; Maria Lucia Pereira da Silva 1957-; Ing Hwie Tan; Congresso Brasileiro de Polímeros (6. 2001 Gramado); International Macromolecular Colloquium (9. 2001 Gramado)

Anais Rio de Janeiro : ABPOL, 2001

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Título:
Desenvolvimento de um procedimento para produção de filme de óxido de silício por PECVD a ser utilizado como protetor de polímeros
Autor: Patrícia Schmid Calvão
Nicole Raymonde Demarquette 1966-; Maria Lucia Pereira da Silva 1957-; Ing Hwie Tan; Congresso Brasileiro de Polímeros (6. 2001 Gramado); International Macromolecular Colloquium (9. 2001 Gramado)
Assuntos: POLÍMEROS (MATERIAIS)
É parte de: Anais Rio de Janeiro : ABPOL, 2001
Notas Locais: Disponível em CD-ROM
Editor: Rio de Janeiro ABPOL
Data de criação/publicação: 2001
Formato: p. 834-837.
Idioma: Português

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