Idioma:

Resistência ao cisalhamento da interface resina/esmalte após fotopolimerização com diferentes fontes de luz

C. B. Brandão M. M. M. G Contente; J. M. G Silva; R. H Oliveira; C. P Torres; Regina Guenka Palma Dibb; Maria Cristina Borsatto; Congresso Interno de Pesquisa da FORP-USP (9. 2007 Ribeirão Preto)

Anais da Faculdade de Odontologia de Ribeirão Preto da Universidade de São Paulo Ribeirão Preto v. 14, res. 73, 2007

Localização: FORP - Fac. Odont. de Ribeirão Preto (PCD 1616734 ) e outros locais(Acessar)

Título:
Resistência ao cisalhamento da interface resina/esmalte após fotopolimerização com diferentes fontes de luz
Autor: C. B. Brandão
M. M. M. G Contente; J. M. G Silva; R. H Oliveira; C. P Torres; Regina Guenka Palma Dibb; Maria Cristina Borsatto; Congresso Interno de Pesquisa da FORP-USP (9. 2007 Ribeirão Preto)
Assuntos: SELANTES DE FOSSAS E FISSURAS
É parte de: Anais da Faculdade de Odontologia de Ribeirão Preto da Universidade de São Paulo Ribeirão Preto v. 14, res. 73, 2007
Notas: Impresso
Editor: Ribeirão Preto
Data de criação/publicação: 2007
Formato: 1 CD-ROM.
Idioma: Português

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