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Medição de tensões residuais em filmes finos durante o processo de deposição.

Lagatta, Cristiano Fernandes

Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da USP; Universidade de São Paulo; Escola Politécnica 2011-07-28

Acesso online. A biblioteca também possui exemplares impressos.

  • Título:
    Medição de tensões residuais em filmes finos durante o processo de deposição.
  • Autor: Lagatta, Cristiano Fernandes
  • Orientador: Souza, Roberto Martins de
  • Assuntos: Filmes Finos; Tensões Residuais; Nitreto De Titânio; Medição In-Situ; Triodo Magnetron Sputtering; Residual Stress; In-Situ Measurement; Thin Films; Titanium Nitride; Triode Magnetron Sputtering
  • Notas: Dissertação (Mestrado)
  • Notas Locais: Programa Engenharia Mecânica
  • Descrição: Neste trabalho foram realizadas algumas deposições de filmes de Nitreto de Titânio sobre substrato de aço inoxidável. Foi utilizado o processo conhecido como triodo magnetron sputtering. Os parâmetros de deposição foram mantidos entre as deposições, exceto pela voltagem de bias no substrato, que foi variada de uma deposição para outra. Medições in-situ das tensões residuais no filme depositado foram realizadas. As medições foram feitas através do método da curvatura do substrato, utilizando-se um sensor capacitivo posicionado dentro da câmara de deposição. Embora o dispositivo não tenha sido capaz de quantificar os valores de tensão, foi possível identificar a natureza das mesmas, indicando se elas são de caráter trativo ou compressivo. Comprovou-se a possibilidade do uso de sistemas capacitivos para medições em sputtering. Observou-se que os filmes depositados apresentaram tensões de caráter trativo durante as deposições.
  • DOI: 10.11606/D.3.2011.tde-09122011-105117
  • Editor: Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da USP; Universidade de São Paulo; Escola Politécnica
  • Data de criação/publicação: 2011-07-28
  • Formato: Adobe PDF
  • Idioma: Português
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  • Realização: ABCD-USP USP   Logos de Redes Sociais: Freepik

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