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Filmes finos de oxidos(HfO2, CeO2, TiO2) para dispositivos eletrônicos fabricados por IBAD (Ions Beam Assisted for Deposition)

Harliton Jonas da Costa Denis G F David; Antonio Ferreira da Silva; Jose Fernando Diniz Chubaci; Masao Matsuoka 1949-; Jaime A Freitas Junior; Encontro de Físicos do Norte e Nordeste (2013 Campina Grande, Paraíba, Brasil 31a.)

Resumo São Paulo : SBF, 2013

Acesso online

Título:
Filmes finos de oxidos(HfO2, CeO2, TiO2) para dispositivos eletrônicos fabricados por IBAD (Ions Beam Assisted for Deposition)
Autor: Harliton Jonas da Costa
Denis G F David; Antonio Ferreira da Silva; Jose Fernando Diniz Chubaci; Masao Matsuoka 1949-; Jaime A Freitas Junior; Encontro de Físicos do Norte e Nordeste (2013 Campina Grande, Paraíba, Brasil 31a.)
Assuntos: FÍSICA (CONGRESSOS); FILMES FINOS (CONGRESSOS)
É parte de: Resumo São Paulo : SBF, 2013
Editor: São Paulo SBF
Data de criação/publicação: 2013
Formato: 1 p.
Idioma: Português

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