Formação de estruturas submicrométricas auto-organizadas de copolímeros sobre substratos sólidos e aplicações em litografia

• Autor: Longaresi, Rafael Henriques
• Orientador: Faria, Roberto Mendonça
  
• Assuntos: Copolímeros; Elastômero; Estruturas Auto-Organizadas; Nanolitografia; Copolímeros
• Notas: Dissertação (Mestrado)
  
• Descrição: Processos de nanofabricação baseado na auto-montagem de estruturas de copolímeros em bloco tem se tornado importantes ferramentas na nanotecnologia devido a formação de estruturas altamente regulares e ordenadas. Nesse trabalho, apresentaremos resultados experimentais de estruturas sub-micrométricas do copolímero tribloco poliestireno-b-poli(etileno-co-butileno)-b-poliestireno (SEBS), com 15:70:15 de taxa de peso com Mw = 112.000 gmol-1e Mw/Mn = 1,15, que são formadas durante processos de evaporação de sua solução seguidas de dewetting. Foi observado nanoestruturas ordenadas na forma de tiras e pontos, fortemente dependentes da concentração polimérica da solução. Todo o processo engloba uma seqüência de eventos, envolvendo ondulações devido a fluxos termocapilares, dewetting e instabilidade de Rayleigh, assim como a contribuição da segregação de fase entre os componentes do copolímero. Imagens de AFM claramente mostram que a instabilidades das nanoestruturas formadas por tiras decaem em pontos. Também, o fenômeno da separação de microfase do copolímero em bloco desempenha um processo importante, estabelecendo a espessura da estrutura final. Modelos sub-micrométricos obtidos em silicone a partir das estruturas de SEBS mostram que esta é uma técnica promissora de litografia para a nanoeletrônica.
  
• DOI: 10.11606/D.88.2008.tde-04042008-105854
  
• Editor: Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da USP; Universidade de São Paulo; Ciência e Engenharia de Materiais
  
• Data de criação/publicação: 2008-02-21
  
• Formato: Adobe PDF
  
• Idioma: Português