Programa SILICIO agrupando e correlacionando dados sobre deposição e caracterização de filmes finos de silício hidrogenado

• Autor: John Paul Hempel Lima
• Ely Antonio Tadeu Dirani; Alexandre Mantovani Nardes; Fernando Josepetti Fonseca 1959-; Adnei Melges de Andrade 1943-; Simpósio Internacional de Iniciação Científica da USP (10. 2002 São Carlos); Congresso de Iniciação Científica e Tecnológica em Engenharia (18. 2002 São Carlos)
• Assuntos: FILMES FINOS
• É parte de: SIICUSP; CICTE: resumos
• Editor: São Paulo USP
  
• Data de criação/publicação: 2002
  
• Formato: f.2310.
  
• Idioma: Português