Idioma:

Process and device modeling

Walter L Engl

Localização: EPBC - Esc. Politécnica-Bib Central (621.3.049.771.15 Ad95 v.1 )(Acessar)

Título:
Process and device modeling
Autor: Walter L Engl
Assuntos: Semiconductors -- Mathematical models; Integrated circuits -- Mathematical models; CIRCUITOS INTEGRADOS VLSI; SEMICONDUTORES; MODELOS MATEMÁTICOS; Electronic equipment Very large scale integrated circuits Design Applications of computer systems
Notas: Includes bibliographies and index
Títulos relacionados: Série:Advances in CAD for VLSI v. 1
Editor: Amsterdam New York North-Holland New York, N.Y., U.S.A. Sole distributors for the U.S.A. and Canada, Elsevier Science Pub. Co.
Data de criação/publicação: 1986
Formato: x, 461 p. ill. 25 cm.
Idioma: Inglês

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