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O uso
de
resistes amplificados quimicamente e
de
sililação em litografia por feixe
de
elétrons
Antonio Carlos Seabra 1961- Patrick Bernard Verdonck 1958-
São Paulo EPUSP 1997
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Título:
O uso
de
resistes amplificados quimicamente e
de
sililação em litografia por feixe
de
elétrons
Autor:
Antonio Carlos Seabra 1961-
Patrick Bernard Verdonck 1958-
Assuntos:
CIRCUITOS INTEGRADOS
Títulos relacionados:
Série: Boletim Técnico da Escola Politécnica da USP. Departamento
de
Engenharia Eletrônica, BT/PEE/9719
Editor:
São Paulo EPUSP
Data de criação/publicação:
1997
Formato:
21 p.
Idioma:
Português
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