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Soft lithography in triblock copolymer nanostructures

Rafael H. Longaresi Antonio J. F Carvalho; Marcelo de Assumpção Pereira da Silva; Roberto Mendonça Faria; International Symposium on Advanced Materials and Nanostructures - ISAMN (2. 2007 São Carlos)

Book of Abstracts São Carlos : Instituto de Física de São Carlos - IFSC/USP, 2007

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