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Influence of film thickness on the crystallization of Ni-doped amorphous silicon samples

Fabio Aparecido Ferri Antonio Ricardo Zanatta

Journal of Applied Physics Melville v. 104, n. 1, p. 013534-1-013534-5, July 2008

Melville 2008

Localização: IFSC - Inst. Física de São Carlos (PROD015002 )(Acessar)

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Título:
Influence of film thickness on the crystallization of Ni-doped amorphous silicon samples
Autor: Fabio Aparecido Ferri
Antonio Ricardo Zanatta
Assuntos: NÍQUEL; CRISTALIZAÇÃO; ESPECTROSCOPIA RAMAN; FILMES FINOS
É parte de: Journal of Applied Physics Melville v. 104, n. 1, p. 013534-1-013534-5, July 2008
Editor: Melville
Data de criação/publicação: 2008
Formato: p. 013534-1-013534-5.
Idioma: Inglês

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