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Estudo de litografia por feixe de eletrons para a produção de padrões sobre substratos de heteroestruturas semicondutoras
Marcelo de Assumpção Pereira da Silva Jose Carlos Rossi
1996
Localização:
IFSC - Inst. Física de São Carlos
(Te1153 )
(Acessar)
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Título:
Estudo de litografia por feixe de eletrons para a produção de padrões sobre substratos de heteroestruturas semicondutoras
Autor:
Marcelo de Assumpção Pereira da Silva
Jose Carlos Rossi
Assuntos:
MATÉRIA CONDENSADA
Notas:
Dissertação (Mestrado)
Notas Locais:
Programa Interunidades em Ciência e Engenharia de Materiais EESC/IFSC/IQSC
Descrição:
Este trabalho trata do estudo das condicoes para a producao de padroes em escala nano e micrometricas utilizando o processo de litografia eletronica. A parte inicial refere-se ao estudo do eletron-resiste de pmma incluindo a preparacao da solucao, o recobrimento do substrato e a secagem. Em seguida, sao apresentados estudos sobre o funcionamento do sistema de litografia por feixe de eletrons em detalhe. Sao tratados problemas com o resiste, o substrato e a interacao com a amostra. Sao apresentados os aspectos mais importantes dos substratos utilizados, sendo dados um enfoque a heteroestruturas semicondutoras com gas de eletrons bidimensionais. As condicoes para revelacao do resiste e das etapas de processamento para que seja feita a replicacao para o substrato do padrao gerado no resiste sao tambem abordadas. Diversos estudos foram realizados para mostrar a influencia de alguns efeitos comuns na litografia com a influencia da espessura do filme e os efeitos de proximidade. Tambem trata da producao de padroes sobre substratos diversos como 'GA''AS', vidro, alumina e prata. A ultima etapa estuda a utilizacao de um resiste hibrido pmma-silica como um metodo de conformacao ceramica. Finalmente e apresentado um estudo relativo a producao de diversos padroes diferentes sobre heteroestruturas semicondutoras de 'AL''GA''AS'/'GA''AS'
Data de criação/publicação:
1996
Formato:
146 p.
Idioma:
Português
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