Impact of silicon surface characteristics on gate oxide breakdown characteristics and its correlation with 'SI'o void growth
Claus Martin Hasenack M Heyns; Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica (5. 1990 Campinas)
Anais Campinas : Sbmicro/Spie, 1990Campinas Sbmicro/Spie 1990
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