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Bond strength of a pit-and-fissure sealant associated to etch-and-rinse and self-etching adhesive systems to saliva-contaminated enamel individual vs. simultaneous light curing

Jaciara Miranda Gomes Silva Carolina Paes Torres; Marta Maria Martins Giamatei Contente; Maria Angélica Hueb de Menezes Oliveira; Regina Guenka Palma-Dibb; Maria Cristina Borsatto

Brazilian Dental Journal Ribeirão Preto v. 19, n. 4, p. 341-347, 2008

Ribeirão Preto 2008

Disponible en FORP - Fac. Odont. de Ribeirão Preto    (pcd 1775363 )(Obténgalo)

  • Título:
    Bond strength of a pit-and-fissure sealant associated to etch-and-rinse and self-etching adhesive systems to saliva-contaminated enamel individual vs. simultaneous light curing
  • Autor: Jaciara Miranda Gomes Silva
  • Carolina Paes Torres; Marta Maria Martins Giamatei Contente; Maria Angélica Hueb de Menezes Oliveira; Regina Guenka Palma-Dibb; Maria Cristina Borsatto
  • Materias: SELANTES DE FOSSAS E FISSURAS; SALIVA; ADESIVOS DENTINÁRIOS
  • Es parte de: Brazilian Dental Journal Ribeirão Preto v. 19, n. 4, p. 341-347, 2008
  • Descripción: Este estudo avaliou in vitro a resistência ao cisalhamento (RC) de um selante resinoso [Fluroshield (F), Dentsply/Caulk] em associação com um sistema adesivo de condicionamento total [Adper Single Bond 2 (SB), 3M/ESPE] ou auto-condicionante [Clearfil S3 Bond (S3), Kuraray Co., Ltd.] após contaminação salivar do esmalte, comparando dois protocolos: fotopolimerização individual do sistema adesivo e do selante ou simultânea de ambos os materiais. Superfícies mesiais e distais de esmalte de 45 terceiros molares hígidos foram aleatoriamente alocadas em 6 grupos (n=15), de acordo com a técnica adesiva empregada: I - F foi aplicado sobre o esmalte condicionado com ácido fosfórico a 37%. Os demais grupos foram contaminados com saliva (0,01 mL por 10 s) após o condicionamento ácido. II - SB e F foram fotopolimerizados separadamente; III - SB e F foram fotopolimerizados simultaneamente; IV - S3 e F foram fotopolimerizados separadamente; V - S3 e F foram fotopolimerizados simultaneamente; VI - F foi aplicado sobre o esmalte condicionado e contaminado sem sistema adesivo. RC foi testada em uma máquina universal de ensaios (0,5 mm/min; 50 kgf) e os dados analisados por ANOVA a 1 fator e teste exato de Fisher ('alfa'=0,05). As interfaces adesivas foram analisadas quanto ao padrão de fraturas em estereomicroscópio. Três espécimes de cada grupo foram analisados qualitativamente em microscópio eletrônico de varredura. As médias de RC em MPa foram: I-12,28 ('+ OU -'4,29); II-8,57 ('+ OU
    -'3,19); III-7,97 ('+ OU -'2,16); IV-12,56 ('+ OU -'3,11); V-11,45 ('+ OU -'3,77); e VI-7,47 ('+ OU -'1,99). Conclui-se que a fotopolimerização individual ou simultânea do sistema adesivo e do selante não afetou os valores de RC ao esmalte contaminado. S3/F apresentou RC estatisticamente maior do que os grupos tratados com o sistema adesivo etch-and-rinse SB e estatisticamente semelhante ao grupo controle, no qual o selante foi aplicado ....[continua....] [continuação]....em condições ideais, na ausência de contaminação salivar
  • Editor: Ribeirão Preto
  • Fecha de creación: 2008
  • Formato: p. 341-347.
  • Idioma: Inglés
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