Influence des paramètres puissance source et bias sur la gravure ICP-RIE plasma d’une couche mince suivie par interférométrie LASER
Constantin, D. ; Petit-Etienne, C. ; Bsiesy, A.
Journal sur l'enseignement des sciences et technologies de l'information et des systèmes, 2022, Vol.21, p.1003 [Periódico revisado por pares]EDP Sciences
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