Deposition of microcrystalline intrinsic silicon by the Electrical Asymmetry Effect technique

Hrunski, D. ; Mootz, F. ; Zeuner, A. ; Janssen, A. ; Rost, H. ; Beckmann, R. ; Binder, S. ; Schüngel, E. ; Mohr, S. ; Luggenhölscher, D. ; Czarnetzki, U. ; Grabosch, G.

Vacuum, 2013-01, Vol.87, p.114-118 [Periódico revisado por pares]

Elsevier Ltd

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