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Silicon surface roughening induced by c'BR''F IND.3' plasma during the reactive ion etching

R K Yamamoto M C V Lopes; C T Akamine; Sebastião Gomes dos Santos Filho 1962-; Claus Martin Hasenack; Congresso Brasileiro de Engenharia e Ciencia dos Materiais (10. 1992 Águas de Lindóia, SP)

Resumos Campinas : Unicamp/Cbecimat, 1992

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Título:
Silicon surface roughening induced by c'BR''F IND.3' plasma during the reactive ion etching
Autor: R K Yamamoto
M C V Lopes; C T Akamine; Sebastião Gomes dos Santos Filho 1962-; Claus Martin Hasenack; Congresso Brasileiro de Engenharia e Ciencia dos Materiais (10. 1992 Águas de Lindóia, SP)
Assuntos: SEMICONDUTORES
É parte de: Resumos Campinas : Unicamp/Cbecimat, 1992
Editor: Campinas Unicamp/Cbecimat
Data de criação/publicação: 1992
Formato: p.100.
Idioma: Inglês

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