Idioma:

Materials for microlithography radiation-sensitive polymers

L. F Thompson 1944-; C. G Willson 1939- (C. Grant); J. M. J Fréchet; American Chemical Society Division of Polymeric Materials: Science and Engineering; American Chemical Society Division of Polymer Chemistry; American Chemical Society Meeting (1984 Saint Louis, Mo.)

Localização: EPBC - Esc. Politécnica-Bib Central (621.3.049.75 T375m )(Acessar)

Título:
Materials for microlithography radiation-sensitive polymers
Autor: L. F Thompson 1944-; C. G Willson 1939- (C. Grant); J. M. J Fréchet; American Chemical Society Division of Polymeric Materials: Science and Engineering; American Chemical Society Division of Polymer Chemistry; American Chemical Society Meeting (1984 Saint Louis, Mo.)
Assuntos: Polymers -- Congresses; Photoresists -- Congresses; Microlithography -- Materials -- Congresses; Microelectronics -- Materials -- Congresses; MICROELETRÔNICA; MATERIAIS; CIRCUITOS IMPRESSOS
Notas: Includes bibliographies and indexes
Títulos relacionados: Série:ACS symposium series 266
Editor: Washington, D.C. The Society
Data de criação/publicação: 1984
Formato: viii, 494 p. ill. 24 cm.
Idioma: Inglês

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