Idioma:

Silicon micro-channel definition via ICP plasma etching process using different hard masks

Hugo da S. Alvarez J. A Diniz; C. S Ruiz; Audrey R Silva; Frederico H Cioldin; Valter Salles do Nascimento Junior; AVS International Symposium and Exhibition (66. : 2019 : Columbus, Ohio, USA)

Abstract Book New York, NY, USA : AVS, 2019

Localização: EESC - Esc. Engenharia de São Carlos (PROD-026260 )(Acessar)

Título:
Silicon micro-channel definition via ICP plasma etching process using different hard masks
Autor: Hugo da S. Alvarez
J. A Diniz; C. S Ruiz; Audrey R Silva; Frederico H Cioldin; Valter Salles do Nascimento Junior; AVS International Symposium and Exhibition (66. : 2019 : Columbus, Ohio, USA)
Assuntos: TRANSFERÊNCIA DE CALOR; RUGOSIDADE SUPERFICIAL; ENGENHARIA MECÂNICA
É parte de: Abstract Book New York, NY, USA : AVS, 2019
Editor: New York, NY, USA AVS
Data de criação/publicação: 2019
Formato: abstract 1219.
Idioma: Inglês

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