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In-chip microstructures and photonic devices fabricated by nonlinear laser lithography deep inside silicon
In-chip microstructures and photonic devices fabricated by nonlinear laser lithography deep inside silicon
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In-chip microstructures and photonic devices fabricated by nonlinear laser lithography deep inside silicon

Tokel, Onur ; Turnali, Ahmet ; Makey, Ghaith ; Elahi, Parviz ; Çolakoğlu, Tahir ; Ergeçen, Emre ; Yavuz, Özgün ; Hübner, René ; Borra, Mona Zolfaghari ; Pavlov, Ihor ; Bek, Alpan ; Turan, Raşit ; Kesim, Denizhan Koray ; Tozburun, Serhat ; Ilday, Serim ; Ilday, F Ömer

Nature photonics, 2017-10, Vol.11 (10), p.639-645 [Periódico revisado por pares]

England: Nature Publishing Group

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2
Reducing intrinsic loss in superconducting resonators by surface treatment and deep etching of silicon substrates
Reducing intrinsic loss in superconducting resonators by surface treatment and deep etching of silicon substrates
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Reducing intrinsic loss in superconducting resonators by surface treatment and deep etching of silicon substrates

Bruno, A. ; de Lange, G. ; Asaad, S. ; van der Enden, K. L. ; Langford, N. K. ; DiCarlo, L.

Applied physics letters, 2015-05, Vol.106 (18) [Periódico revisado por pares]

Melville: American Institute of Physics

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3
Tuning the thickness of exfoliated quasi-two-dimensional β-Ga2O3 flakes by plasma etching
Tuning the thickness of exfoliated quasi-two-dimensional β-Ga2O3 flakes by plasma etching
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Tuning the thickness of exfoliated quasi-two-dimensional β-Ga2O3 flakes by plasma etching

Kwon, Yongbeom ; Lee, Geonyeop ; Oh, Sooyeoun ; Kim, Jihyun ; Pearton, Stephen J. ; Ren, Fan

Applied physics letters, 2017-03, Vol.110 (13) [Periódico revisado por pares]

Melville: American Institute of Physics

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4
Fabrication of Novel MEMS Microgrippers by Deep Reactive Ion Etching With Metal Hard Mask
Fabrication of Novel MEMS Microgrippers by Deep Reactive Ion Etching With Metal Hard Mask
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Fabrication of Novel MEMS Microgrippers by Deep Reactive Ion Etching With Metal Hard Mask

Bagolini, Alvise ; Ronchin, Sabina ; Bellutti, Pierluigi ; Chiste, Matteo ; Verotti, Matteo ; Belfiore, Nicola Pio

Journal of microelectromechanical systems, 2017-08, Vol.26 (4), p.926-934 [Periódico revisado por pares]

New York: IEEE

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5
Ultra Deep Reactive Ion Etching of High Aspect-Ratio and Thick Silicon Using a Ramped-Parameter Process
Ultra Deep Reactive Ion Etching of High Aspect-Ratio and Thick Silicon Using a Ramped-Parameter Process
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Ultra Deep Reactive Ion Etching of High Aspect-Ratio and Thick Silicon Using a Ramped-Parameter Process

Tang, Yemin ; Sandoughsaz, Amin ; Owen, Kevin J. ; Najafi, Khalil

Journal of microelectromechanical systems, 2018-08, Vol.27 (4), p.686-697 [Periódico revisado por pares]

New York: IEEE

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6
On-chip microfluidic production of cell-sized liposomes
On-chip microfluidic production of cell-sized liposomes
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On-chip microfluidic production of cell-sized liposomes

Deshpande, Siddharth ; Dekker, Cees

Nature protocols, 2018-05, Vol.13 (5), p.856-874 [Periódico revisado por pares]

England: Nature Publishing Group

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7
Micromachined Packaging for Terahertz Systems
Micromachined Packaging for Terahertz Systems
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Micromachined Packaging for Terahertz Systems

Chattopadhyay, Goutam ; Reck, Theodore ; Lee, Choonsup ; Jung-Kubiak, Cecile

Proceedings of the IEEE, 2017-06, Vol.105 (6), p.1139-1150 [Periódico revisado por pares]

New York: IEEE

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8
Phenomenological model for predicting C x H y F z + ion etching yields of SiO2 and SiN x substrates
Phenomenological model for predicting C x H y F z + ion etching yields of SiO2 and SiN x substrates
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Phenomenological model for predicting C x H y F z + ion etching yields of SiO2 and SiN x substrates

Kawamoto, Akiko ; Kataoka, Junji ; Kuboi, Shuichi ; Sasaki, Toshiyuki ; Tamaoki, Naoki

Japanese Journal of Applied Physics, 2023-07, Vol.62 (SI) [Periódico revisado por pares]

IOP Publishing

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9
In-plane silicon microneedles with open capillary microfluidic networks by deep reactive ion etching and sacrificial layer based sharpening
In-plane silicon microneedles with open capillary microfluidic networks by deep reactive ion etching and sacrificial layer based sharpening
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In-plane silicon microneedles with open capillary microfluidic networks by deep reactive ion etching and sacrificial layer based sharpening

Li, Yan ; Zhang, Hang ; Yang, Ruifeng ; Tazrin, Fahima ; Zhu, Chenxu ; Kaddoura, Moufeed ; Blondeel, Eric J.M. ; Cui, Bo

Sensors and actuators. A. Physical., 2019-06, Vol.292, p.149-157 [Periódico revisado por pares]

Lausanne: Elsevier B.V

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10
The structural and optical properties of black silicon by inductively coupled plasma reactive ion etching
The structural and optical properties of black silicon by inductively coupled plasma reactive ion etching
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The structural and optical properties of black silicon by inductively coupled plasma reactive ion etching

Steglich, Martin ; Käsebier, Thomas ; Zilk, Matthias ; Pertsch, Thomas ; Kley, Ernst-Bernhard ; Tünnermann, Andreas

Journal of applied physics, 2014-11, Vol.116 (17) [Periódico revisado por pares]

Melville: American Institute of Physics

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