Result Number | Material Type | Add to My Shelf Action | Record Details and Options |
---|---|---|---|
1 |
Material Type: Relatório Técnico
|
![]() |
Deposicao de nitreto de silicio por lpcvdLuís da Silva Zambom Claus Martin HasenackSão Paulo Epusp 1995Item não circula. Consulte sua biblioteca.(Acessar) |
2 |
Material Type: Dissertação de Mestrado
|
![]() |
Deposição de nitreto de silício por LPCVD.Zambom, Luis Da SilvaBiblioteca Digital de Teses e Dissertações da USP; Universidade de São Paulo; Escola Politécnica 1994-06-24Acesso online. A biblioteca também possui exemplares impressos. |
3 |
Material Type: Dissertação de Mestrado
|
![]() |
Avaliação da influência do ambiente no processo de obtenção do siliceto de titânio em fornos RTP operando no LSI-EPUSP.Costa, Yan Prucha Vieira DaBiblioteca Digital de Teses e Dissertações da USP; Universidade de São Paulo; Escola Politécnica 1993-08-23Acesso online. A biblioteca também possui exemplares impressos. |
4 |
Material Type: Artigo de Congresso
|
![]() |
'SI' / 'SI''O IND.2' interface asperities their effect on breakdown characteristics and on electric field distribution within thin gate oxidesM C V Lopes Claus Martin Hasenack; Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica (7. 1992 São Paulo)Anais São Paulo : Sbmicro/Epusp, 1992Sao Paulo Sbmicro/Epusp 1992Item não circula. Consulte sua biblioteca.(Acessar) |
5 |
Material Type: Artigo de Congresso
|
![]() |
Estudo da influencia do ambiente no processo de silicetacao do titanio realizado em fornos de rtpY P V Costa Claus Martin Hasenack; Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica (7. 1992 São Paulo)Anais São Paulo : Sbmicro/Epusp, 1992São Paulo Sbmicro/Epusp 1992Item não circula. Consulte sua biblioteca.(Acessar) |
6 |
Material Type: Artigo de Congresso
|
![]() |
Mechanisms of metal and sulfur contamination on silicon wafer surfaces during HF-last cleanings. (em CD-Rom)Sebastião Gomes dos Santos Filho 1962- Claus Martin Hasenack; Conference of the Brazilian Microelectronics Society (12. 1997 Caxambu)Proceedings Itajubá : SBMICRO/EFEI, 1997Itajubá SBMICRO/EFEI 1997Item não circula. Consulte sua biblioteca.(Acessar) |
7 |
Material Type: Artigo de Congresso
|
![]() |
Impact of silicon surface characteristics on gate oxide breakdown characteristics and its correlation with 'SI'o void growthClaus Martin Hasenack M Heyns; Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica (5. 1990 Campinas)Anais Campinas : Sbmicro/Spie, 1990Campinas Sbmicro/Spie 1990Item não circula. Consulte sua biblioteca.(Acessar) |
8 |
Material Type: Artigo de Congresso
|
![]() |
Trxfa uma tecnica de analise somente para microeletronicaClaus Martin Hasenack N G Leite; Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica (9. 1994 Rio de Janeiro)Anais Rio de Janeiro : Sbmicro/Ufrj, 1994Rio de Janeiro Sbmicro/Ufrj 1994Item não circula. Consulte sua biblioteca.(Acessar) |
9 |
Material Type: Artigo de Congresso
|
![]() |
Analise do processo de limpeza de laminas de silicio por trxfaN G Leite Claus Martin Hasenack; Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica (9. 1994 Rio de Janeiro)Anais Rio de Janeiro : Sbmicro/Ufrj, 1994Rio de Janeiro Sbmicro/Ufrj 1994Item não circula. Consulte sua biblioteca.(Acessar) |
10 |
Material Type: Artigo de Congresso
|
![]() |
Simulacao numerica da evolucao da rugosidade da interface 'SI'-'SI''O IND.2' sob processo de oxidacao termica de silicioL G Araes Claus Martin Hasenack; Simposio de Iniciacao Cientifica da Universidade de São Paulo (3. 1995 São Carlos)Sao Paulo : Usp, 1995 ResumosSao Paulo Usp 1995Item não circula. Consulte sua biblioteca.(Acessar) |