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Selective Laser-Induced Etching of 3D Precision Quartz Glass Components for Microfluidic Applications—Up-Scaling of Complexity and Speed
Selective Laser-Induced Etching of 3D Precision Quartz Glass Components for Microfluidic Applications—Up-Scaling of Complexity and Speed
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Selective Laser-Induced Etching of 3D Precision Quartz Glass Components for Microfluidic Applications—Up-Scaling of Complexity and Speed

Gottmann, Jens ; Hermans, Martin ; Repiev, Nikolai ; Ortmann, Jürgen

Micromachines (Basel), 2017-04, Vol.8 (4), p.110 [Periódico revisado por pares]

Basel: MDPI AG

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2
Recent Advances in Reactive Ion Etching and Applications of High-Aspect-Ratio Microfabrication
Recent Advances in Reactive Ion Etching and Applications of High-Aspect-Ratio Microfabrication
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Recent Advances in Reactive Ion Etching and Applications of High-Aspect-Ratio Microfabrication

Huff, Michael

Micromachines (Basel), 2021-08, Vol.12 (8), p.991 [Periódico revisado por pares]

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3
Curved Structure of Si by Improving Etching Direction Controllability in Magnetically Guided Metal-Assisted Chemical Etching
Curved Structure of Si by Improving Etching Direction Controllability in Magnetically Guided Metal-Assisted Chemical Etching
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Curved Structure of Si by Improving Etching Direction Controllability in Magnetically Guided Metal-Assisted Chemical Etching

Kim, Tae ; Bae, Jee-Hwan ; Kim, Juyoung ; Cho, Min ; Kim, Yu-Chan ; Jin, Sungho ; Chun, Dongwon

Micromachines (Basel), 2020-07, Vol.11 (8), p.744 [Periódico revisado por pares]

Basel: MDPI AG

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4
Etching Rate Analysis Model Based on Quartz Bond Angle Characteristics
Etching Rate Analysis Model Based on Quartz Bond Angle Characteristics
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Etching Rate Analysis Model Based on Quartz Bond Angle Characteristics

Zhao, Xinjia ; Lv, Chengbao ; Song, Shuanqiang ; Zhao, Meng ; Ji, Jing

Micromachines (Basel), 2024-06, Vol.15 (6), p.768 [Periódico revisado por pares]

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5
Metasurface Fabrication by Cryogenic and Bosch Deep Reactive Ion Etching
Metasurface Fabrication by Cryogenic and Bosch Deep Reactive Ion Etching
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Metasurface Fabrication by Cryogenic and Bosch Deep Reactive Ion Etching

Baracu, Angela M ; Dirdal, Christopher A ; Avram, Andrei M ; Dinescu, Adrian ; Muller, Raluca ; Jensen, Geir Uri ; Thrane, Paul Conrad Vaagen ; Angelskår, Hallvard

Micromachines (Basel), 2021-04, Vol.12 (5), p.501 [Periódico revisado por pares]

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6
Effect of Mask Geometry Variation on Plasma Etching Profiles
Effect of Mask Geometry Variation on Plasma Etching Profiles
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Effect of Mask Geometry Variation on Plasma Etching Profiles

Bobinac, Josip ; Reiter, Tobias ; Piso, Julius ; Klemenschits, Xaver ; Baumgartner, Oskar ; Stanojevic, Zlatan ; Strof, Georg ; Karner, Markus ; Filipovic, Lado

Micromachines (Basel), 2023-03, Vol.14 (3), p.665 [Periódico revisado por pares]

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7
Sapphire Selective Laser Etching Dependence on Radiation Wavelength and Etchant
Sapphire Selective Laser Etching Dependence on Radiation Wavelength and Etchant
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Sapphire Selective Laser Etching Dependence on Radiation Wavelength and Etchant

Butkutė, Agnė ; Sirutkaitis, Romualdas ; Gailevičius, Darius ; Paipulas, Domas ; Sirutkaitis, Valdas

Micromachines (Basel), 2022-12, Vol.14 (1), p.7 [Periódico revisado por pares]

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8
Study of Through Glass Via (TGV) Using Bessel Beam, Ultrashort Two-Pulses of Laser and Selective Chemical Etching
Study of Through Glass Via (TGV) Using Bessel Beam, Ultrashort Two-Pulses of Laser and Selective Chemical Etching
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Study of Through Glass Via (TGV) Using Bessel Beam, Ultrashort Two-Pulses of Laser and Selective Chemical Etching

Kim, Jonghyeok ; Kim, Sungil ; Kim, Byungjoo ; Choi, Jiyeon ; Ahn, Sanghoon

Micromachines (Basel), 2023-09, Vol.14 (9), p.1766 [Periódico revisado por pares]

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9
Towards the Fabrication of High-Aspect-Ratio Silicon Gratings by Deep Reactive Ion Etching
Towards the Fabrication of High-Aspect-Ratio Silicon Gratings by Deep Reactive Ion Etching
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Towards the Fabrication of High-Aspect-Ratio Silicon Gratings by Deep Reactive Ion Etching

Shi, Zhitian ; Jefimovs, Konstantins ; Romano, Lucia ; Stampanoni, Marco

Micromachines (Basel), 2020-09, Vol.11 (9), p.864 [Periódico revisado por pares]

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10
SF₆ Optimized O₂ Plasma Etching of Parylene C
SF₆ Optimized O₂ Plasma Etching of Parylene C
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SF₆ Optimized O₂ Plasma Etching of Parylene C

Zhang, Lingqian ; Liu, Yaoping ; Li, Zhihong ; Wang, Wei

Micromachines (Basel), 2018-04, Vol.9 (4), p.162 [Periódico revisado por pares]

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