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1
Multilayer Al2O3/TiO2 Atomic Layer Deposition coatings for the corrosion protection of stainless steel
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Multilayer Al2O3/TiO2 Atomic Layer Deposition coatings for the corrosion protection of stainless steel

Marin, E. ; Guzman, L. ; Lanzutti, A. ; Ensinger, W. ; Fedrizzi, L.

Thin solid films, 2012-11, Vol.522, p.283-288 [Periódico revisado por pares]

Amsterdam: Elsevier B.V

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2
Formation of CuIn1−xAlxSe2 thin films studied by Raman scattering
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Formation of CuIn1−xAlxSe2 thin films studied by Raman scattering

Olejníček, J. ; Kamler, C.A. ; Darveau, S.A. ; Exstrom, C.L. ; Slaymaker, L.E. ; Vandeventer, A.R. ; Ianno, N.J. ; Soukup, R.J.

Thin solid films, 2011-06, Vol.519 (16), p.5329-5334 [Periódico revisado por pares]

Amsterdam: Elsevier B.V

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3
Guiding the deposition flux in an ionized magnetron discharge
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Guiding the deposition flux in an ionized magnetron discharge

Bohlmark, J. ; Östbye, M. ; Lattemann, M. ; Ljungcrantz, H. ; Rosell, T. ; Helmersson, U.

Thin solid films, 2006-12, Vol.515 (4), p.1928-1931 [Periódico revisado por pares]

Lausanne: Elsevier B.V

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4
Glow discharge optical emission spectroscopy for accurate and well resolved analysis of coatings and thin films
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Glow discharge optical emission spectroscopy for accurate and well resolved analysis of coatings and thin films

Wilke, Marcus ; Teichert, Gerd ; Gemma, Ryota ; Pundt, Astrid ; Kirchheim, Reiner ; Romanus, Henry ; Schaaf, Peter

Thin solid films, 2011-12, Vol.520 (5), p.1660-1667 [Periódico revisado por pares]

Amsterdam: Elsevier B.V

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5
Enhanced conductivity of aluminum doped ZnO films by hydrogen plasma treatment
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Enhanced conductivity of aluminum doped ZnO films by hydrogen plasma treatment

Chang, H.P. ; Wang, F.H. ; Wu, J.Y. ; Kung, C.Y. ; Liu, H.W.

Thin solid films, 2010-10, Vol.518 (24), p.7445-7449 [Periódico revisado por pares]

Amsterdam: Elsevier B.V

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6
Fabrication of enhancement-mode AlGaN/GaN high electron mobility transistors using double plasma treatment
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Fabrication of enhancement-mode AlGaN/GaN high electron mobility transistors using double plasma treatment

Lim, Jong-Won ; Ahn, Ho-Kyun ; Kim, Seong-il ; Kang, Dong-Min ; Lee, Jong-Min ; Min, Byoung-Gue ; Lee, Sang-Heung ; Yoon, Hyung-Sup ; Ju, Chull-Won ; Kim, Haecheon ; Mun, Jae-Kyoung ; Nam, Eun-Soo ; Park, Hyung-Moo

Thin solid films, 2013-11, Vol.547, p.106-110 [Periódico revisado por pares]

Amsterdam: Elsevier B.V

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7
Effect of combined shot-peening and PEO treatment on fatigue life of 2024 Al alloy
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Effect of combined shot-peening and PEO treatment on fatigue life of 2024 Al alloy

Asquith, D.T. ; Yerokhin, A.L. ; Yates, J.R. ; Matthews, A.

Thin solid films, 2006-11, Vol.515 (3), p.1187-1191 [Periódico revisado por pares]

Lausanne: Elsevier B.V

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8
Spatial and temporal investigation of high power pulsed magnetron discharges by optical 2D-imaging
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Spatial and temporal investigation of high power pulsed magnetron discharges by optical 2D-imaging

Liebig, B. ; Braithwaite, N. St. J. ; Kelly, P.J. ; Bradley, J.W.

Thin solid films, 2010-12, Vol.519 (5), p.1699-1704 [Periódico revisado por pares]

Amsterdam: Elsevier B.V

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9
Characteristics of aluminum-doped zinc oxide films with oxygen plasma treatment for solar cell applications
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Characteristics of aluminum-doped zinc oxide films with oxygen plasma treatment for solar cell applications

Park, Yong Seob ; Seo, Munsoo ; Yi, Junsin ; Lim, Donggun ; Lee, Jaehyeong

Thin solid films, 2013-11, Vol.547, p.47-51 [Periódico revisado por pares]

Amsterdam: Elsevier B.V

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10
Comparison of chlorine- and fluorine-based inductively coupled plasmas for dry etching of InGaZnO4 films
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Comparison of chlorine- and fluorine-based inductively coupled plasmas for dry etching of InGaZnO4 films

Park, Jong Cheon ; Jeong, Ok Geun ; Kim, Jin Kon ; Yun, Young-Hoon ; Pearton, Stephen J. ; Cho, Hyun

Thin solid films, 2013-11, Vol.546, p.136-140 [Periódico revisado por pares]

Amsterdam: Elsevier B.V

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