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Charge storage in corona-charged polypropylene films analyzed by LIPP and TSC methods
Charge storage in corona-charged polypropylene films analyzed by LIPP and TSC methods
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Charge storage in corona-charged polypropylene films analyzed by LIPP and TSC methods

Ono, R. ; Nakazawa, M. ; Oda, T.

IEEE transactions on industry applications, 2004-11, Vol.40 (6), p.1482-1488 [Periódico revisado por pares]

New York: IEEE

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2
Measurement of hydroxyl radicals in an atmospheric pressure discharge plasma by using laser-induced fluorescence
Measurement of hydroxyl radicals in an atmospheric pressure discharge plasma by using laser-induced fluorescence
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Measurement of hydroxyl radicals in an atmospheric pressure discharge plasma by using laser-induced fluorescence

Ono, R. ; Oda, T.

IEEE transactions on industry applications, 2000-01, Vol.36 (1), p.82-86 [Periódico revisado por pares]

New York: IEEE

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3
Improvement of the energy efficiency in the decomposition of dilute trichloroethylene by the barrier discharge plasma process
Improvement of the energy efficiency in the decomposition of dilute trichloroethylene by the barrier discharge plasma process
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Improvement of the energy efficiency in the decomposition of dilute trichloroethylene by the barrier discharge plasma process

SangBo Han ; Oda, T. ; Ono, R.

IEEE transactions on industry applications, 2005-09, Vol.41 (5), p.1343-1349 [Periódico revisado por pares]

New York: IEEE

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4
Optical diagnosis of high pressure non-thermal plasma
Optical diagnosis of high pressure non-thermal plasma
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Optical diagnosis of high pressure non-thermal plasma

Oda, T ; Nakagawa, Y ; Ono, R

Journal of physics. Conference series, 2013-01, Vol.418 (1), p.12101-12 [Periódico revisado por pares]

Bristol: IOP Publishing

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5
Small area Y-Ba-Cu-O thin films for applications in hot-electron bolometers
Small area Y-Ba-Cu-O thin films for applications in hot-electron bolometers
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Small area Y-Ba-Cu-O thin films for applications in hot-electron bolometers

Vale, L.R. ; Ono, R.H.

IEEE transactions on applied superconductivity, 2001-03, Vol.11 (1), p.762-765 [Periódico revisado por pares]

New York, NY: IEEE

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6
On-wafer measurements of nonlinear effects in high temperature superconductors
On-wafer measurements of nonlinear effects in high temperature superconductors
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On-wafer measurements of nonlinear effects in high temperature superconductors

Booth, J.C. ; Vale, L.R. ; Ono, R.H.

IEEE transactions on applied superconductivity, 2001-03, Vol.11 (1), p.1387-1391 [Periódico revisado por pares]

New York, NY: IEEE

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7
Measurement of hydroxyl radicals in pulsed corona discharge
Measurement of hydroxyl radicals in pulsed corona discharge
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Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

Measurement of hydroxyl radicals in pulsed corona discharge

Ono, Ryo ; Oda, Tetsuji

Journal of electrostatics, 2002-07, Vol.55 (3), p.333-342 [Periódico revisado por pares]

Elsevier B.V

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8
Surface charge behaviour of corona-charged thin polymer films -simultaneous LIPP and TSDC measurement
Surface charge behaviour of corona-charged thin polymer films -simultaneous LIPP and TSDC measurement
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Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

Surface charge behaviour of corona-charged thin polymer films -simultaneous LIPP and TSDC measurement

Oda, T ; Yamashita, K ; Ono, R

Journal of physics. Conference series, 2008-12, Vol.142 (1), p.012012 [Periódico revisado por pares]

Bristol: IOP Publishing

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9
Interface-engineered Josephson junctions optimized for high J(C)
Interface-engineered Josephson junctions optimized for high J(C)
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Interface-engineered Josephson junctions optimized for high J(C)

Shimakage, H ; Ono, R H ; Vale, L R ; Wang, Zhen

IEEE transactions on applied superconductivity, 2001-06, Vol.11 (2), p.4032-4035 [Periódico revisado por pares]

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10
A self-attenuating superconducting transmission line for use as a microwave power limiter
A self-attenuating superconducting transmission line for use as a microwave power limiter
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A self-attenuating superconducting transmission line for use as a microwave power limiter

Booth, J.C. ; Rudman, D.A. ; Ono, R.H.

IEEE transactions on applied superconductivity, 2003-06, Vol.13 (2), p.305-310 [Periódico revisado por pares]

New York, NY: IEEE

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