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1
Comparison between 0.13Mm partially-depleted silicon-on-insulator technology with floating body operation at 300 K and 90 K
Comparison between 0.13Mm partially-depleted silicon-on-insulator technology with floating body operation at 300 K and 90 K
Material Type:
Livro 		Adicionar ao Meu Espaço

Comparison between 0.13Mm partially-depleted silicon-on-insulator technology with floating body operation at 300 K and 90 K

Marcelo Antonio Pavanello João Antonio Martino 1959-; A Mercha; J.M Rafi; Eddy Simoen; Cor Claeys; H Van Meer; K De Meyer; International Symposium on Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2002 (17 2002 Porto Alegre, RS)

Morimoto, N.I.; Ribas, P.R.; Verdonck, P.B., eds Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2002 Pennington : The Electrochemical Society, 2002

Pennington The Electrochemical Society 2002

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2
Microelectronics Technology and Devices SBMicro 2003
Microelectronics Technology and Devices SBMicro 2003
Material Type:
Livro 		Adicionar ao Meu Espaço

Microelectronics Technology and Devices SBMicro 2003

João Antonio Martino 1959- Marcelo Antonio Pavanello; Nilton Itiro Morimoto 1962-; International Symposium on Microelectronics Technology and Devices (18. 2003 São Paulo)

SBMicro proceedings

Pennington Electrochemical Society 2003

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3
Halo optimization for 0.13 micron SOI CMOS technology
Halo optimization for 0.13 micron SOI CMOS technology
Material Type:
Artigo de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Halo optimization for 0.13 micron SOI CMOS technology

Paula Ghedini Der Agopian Julia Maria Arrabaça; João Antonio Martino 1959-; International Symposium on Microelectronics Technology and Devices SBMICRO (2008 Gramado, RS)

SBMICRO 2008: Anais Pennington: The Electrochemical Society, 2008

Pennington The Electrochemical Society 2008

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4
Microelectronics technology and devices, SBMicro 2010
Microelectronics technology and devices, SBMicro 2010
Material Type:
Livro 		Adicionar ao Meu Espaço

Microelectronics technology and devices, SBMicro 2010

International Symposium on Microelectronics Technology and Devices (25th 2010 São Paulo, SP) Marcelo Antonio Pavanello; Cor Claeys; João Antonio Martino 1959-

Pennington Electrochemical Society c2010

Localização: EPELM - Esc. Politécnica-Bib Eng Elet., Mec. e Naval    (621.3.049.77 In8m 25. e.2 )(Acessar)

5
Microelectronics technology and devices proceedings SBMICRO 2003
Microelectronics technology and devices proceedings SBMICRO 2003
Material Type:
Livro 		Adicionar ao Meu Espaço

Microelectronics technology and devices proceedings SBMICRO 2003

International Symposium on Microelectronics Technology and Devices (18th 2003 São Paulo) João Antonio Martino 1959-; Marcelo Antonio Pavanello; Nilton Itiro Morimoto 1962-; SBMICRO (Conference) (18th 2003 São Paulo, SP)

Pennington Electrochemical Society c2003

Localização: EPBC - Esc. Politécnica-Bib Central    (621.3.049.77 In8m 18. )(Acessar)

6
Microelectronics technology and devices, SBMICRO 2007
Microelectronics technology and devices, SBMICRO 2007
Material Type:
Livro 		Adicionar ao Meu Espaço

Microelectronics technology and devices, SBMICRO 2007

International Symposium on Microelectronics Technology and Devices SBMICRO (22nd 2007 Rio de Janeiro) João Antonio Martino 1959-; Marcelo Antonio Pavanello; Cor Claeys; Electrochemical Society; Symposium on Integrated Circuits and Systems Design (20th 2007 Rio de Janeiro); Microelectronics Students Forum (7th 2007 Rio de Janeiro)

Pennington, NJ Electrochemical Society c2007

Localização: EPBC - Esc. Politécnica-Bib Central    (621.3.049.77 In8m 22. )(Acessar)

7
Influência da tensão mecânica (strain) no abaixamento de barreira induzido pelo dreno (DIBL) em FinFETs de porta tripla.
Influência da tensão mecânica (strain) no abaixamento de barreira induzido pelo dreno (DIBL) em FinFETs de porta tripla.
Material Type:
Dissertação de Mestrado 		Adicionar ao Meu Espaço

Influência da tensão mecânica (strain) no abaixamento de barreira induzido pelo dreno (DIBL) em FinFETs de porta tripla.

Santos, Sara Dereste Dos

Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da USP; Universidade de São Paulo; Escola Politécnica 2010-02-05

Acesso online. A biblioteca também possui exemplares impressos.

8
Temperature influences on the drain leakage current behavior in graded-channel SOI nMOSFETs
Temperature influences on the drain leakage current behavior in graded-channel SOI nMOSFETs
Material Type:
Artigo de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Temperature influences on the drain leakage current behavior in graded-channel SOI nMOSFETs

Marcello Bellodi João Antonio Martino 1959-; International Symposium on Microelectronics Technology and Devices SBMICRO (20. 2005 Florianópolis)

Claeys, C.; Swart, J. W.; Morimoto, N. I.; Verdonck, P., eds. Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2005 Pennington : The Electrochemical Society, 2005. Proceedings v. 2005-08

Pennington The Electrochemical Society 2005

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9
A simple method to model nonrectangular-gate layout in SOI MOSFETs
A simple method to model nonrectangular-gate layout in SOI MOSFETs
Material Type:
Artigo de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

A simple method to model nonrectangular-gate layout in SOI MOSFETs

Renato Camargo Giacomini João Antonio Martino 1959-; International Symposium on Microelectronics Technology and Devices SBMICRO (20. 2005 Florianópolis)

Claeys, C.; Swart, J. W.; Morimoto, N. I.; Verdonck, P., eds. Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2005 Pennington : The Electrochemical Society, 2005. Proceedings v. 2005-08

Pennington The Electrochemical Society 2005

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10
A study of total series resistance and effective channel length comparing SOI nMOSFET and GC SOI nMOSFET in saturation region
A study of total series resistance and effective channel length comparing SOI nMOSFET and GC SOI nMOSFET in saturation region
Material Type:
Artigo de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

A study of total series resistance and effective channel length comparing SOI nMOSFET and GC SOI nMOSFET in saturation region

Galba Falce de Almeida João Antonio Martino 1959-; International Symposium on Microelectronics Technology and Devices SBMICRO (20. 2005 Florianópolis)

Claeys, C.; Swart, J. W.; Morimoto, N. I.; Verdonck, P., eds. Microelectronics Technology and Devices SBMICRO 2005 Pennington : The Electrochemical Society, 2005. Proceedings v. 2005-08

Pennington The Electrochemical Society 2005

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Deste Autor:

  1. Martino, J
  2. Claeys, C
  3. Simoen, E
  4. Agopian, P
  5. Pavanello, M

Neste Assunto:

  1. Microeletrônica
  2. Transistores
  3. Semicondutores
  4. Circuitos Integrados
  5. Soi Technology

  • Realização: ABCD-USP USP   Logos de Redes Sociais: Freepik

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