Result Number | Material Type | Add to My Shelf Action | Record Details and Options |
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Material Type: Artigo
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A CVD diamond beam telescope for charged particle trackingAdam, W. ; Berdermann, E. ; Bergonzo, R. ; de Boer, W. ; Bogani, F. ; Borchi, E. ; Brambilla, A. ; Bruzzi, M. ; Colledani, C. ; Conway, J. ; D'Angelo, P. ; Dabrowski, W. ; Delpierre, P. ; Dulinski, W. ; Doroshenko, J. ; Doucet, M. ; van Eijk, B. ; Fallou, A. ; Fischer, P. ; Fizzotti, F. ; Kania, D. ; Gan, K.K. ; Grigoriev, E. ; Hallewell, G. ; Han, S. ; Hartjes, F. ; Hrubec, J. ; Husson, D. ; Kagan, H. ; Kaplon, J. ; Kass, R. ; Keil, M. ; Knopfle, K.T. ; Koeth, T. ; Krammer, M. ; Meuser, S. ; Logiudice, A. ; mac Lynne, L. ; Manfredotti, C. ; Meier, D. ; Menichelli, D. ; Mishina, M. ; Moroni, L. ; Noomen, J. ; Oh, A. ; Pan, L.S. ; Pernicka, M. ; Perera, L. ; Riester, J.L. ; Roe, S. ; Rudge, A. ; Russ, J. ; Sala, S. ; Sampietro, M. ; Schnetzer, S. ; Sciortino, S. ; Stelzer, H. ; Stone, R. ; Suter, B. ; Trischuk, W. ; Tromson, D. ; Vittone, E. ; Weilhammer, P. ; Wermes, N. ; Wetstein, M. ; Zeuner, W. ; Zoeller, M.IEEE transactions on nuclear science, 2002-08, Vol.49 (4), p.1857-1862 [Periódico revisado por pares]New York: IEEETexto completo disponível |
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Material Type: Artigo
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CVD diamond sensors for charged particle detectionKrammer, M. ; Adam, W. ; Berdermann, E. ; Bergonzo, P. ; Bertuccio, G. ; Bogani, F. ; Borchi, E. ; Brambilla, A. ; Bruzzi, M. ; Colledani, C. ; Conway, J. ; D'Angelo, P. ; Dabrowski, W. ; Delpierre, P. ; Deneuville, A. ; Dulinski, W. ; van Eijk, B. ; Fallou, A. ; Fizzotti, F. ; Foulon, F. ; Friedl, M. ; Gan, K.K. ; Gheeraert, E. ; Hallewell, G. ; Han, S. ; Hartjes, F. ; Hrubec, J. ; Husson, D. ; Kagan, H. ; Kania, D. ; Kaplon, J. ; Kass, R. ; Koeth, T. ; Logiudice, A. ; Lu, R. ; MacLynne, L. ; Manfredotti, C. ; Meier, D. ; Mishina, M. ; Moroni, L. ; Oh, A. ; Pan, L.S. ; Pernicka, M. ; Peitz, A. ; Perera, L. ; Pirollo, S. ; Procario, M. ; Riester, J.L. ; Roe, S. ; Rousseau, L. ; Rudge, A. ; Russ, J. ; Sala, S. ; Sampietro, M. ; Schnetzer, S. ; Sciortino, S. ; Stelzer, H. ; Stone, R. ; Suter, B. ; Tapper, R.J. ; Tesarek, R. ; Trischuk, W. ; Tromson, D. ; Vittone, E. ; Walsh, A.M. ; Wedenig, R. ; Weilhammer, P. ; Wetstein, M. ; White, C. ; Zeuner, W. ; Zoeller, M.Diamond and related materials, 2001-09, Vol.10 (9), p.1778-1782 [Periódico revisado por pares]Amsterdam: Elsevier B.VTexto completo disponível |
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Material Type: Artigo
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Deposition of microcrystalline intrinsic silicon by the Electrical Asymmetry Effect techniqueHrunski, D. ; Mootz, F. ; Zeuner, A. ; Janssen, A. ; Rost, H. ; Beckmann, R. ; Binder, S. ; Schüngel, E. ; Mohr, S. ; Luggenhölscher, D. ; Czarnetzki, U. ; Grabosch, G.Vacuum, 2013-01, Vol.87, p.114-118 [Periódico revisado por pares]Elsevier LtdTexto completo disponível |
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Material Type: Artigo
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Diamond Pixel DetectorsAdam, W. ; Berdermann, E. ; Bergonzo, P. ; Bertuccio, G. ; Bogani, F. ; Borchi, E. ; Brambilla, A. ; Bruzzi, M. ; Colledani, C. ; Conway, J. ; D'Angelo, P. ; Dabrowski, W. ; Delpierre, P. ; Deneuville, A. ; Doroshenko, J. ; Dulinski, W. ; van Eijk, B. ; Fallou, A. ; Fizzotti, F. ; Foster, J. ; Foulon, F. ; Friedl, M. ; Gan, K.K. ; Gheeraert, E. ; Gobbi, B. ; Grim, G.P. ; Hallewell, G. ; Han, S. ; Hartjes, F. ; Hrubec, J. ; Husson, D. ; Kagan, H. ; Kania, D. ; Kaplon, J. ; Kass, R. ; Koeth, T. ; Krammer, M. ; Lander, R. ; Logiudice, A. ; Lu, R. ; mac Lynne, L. ; Manfredotti, C. ; Meier, D. ; Mishina, M. ; Moroni, L. ; Oh, A. ; Pan, L.S. ; Pernicka, M. ; Perera, L. ; Pirollo, S. ; Plano, R. ; Procario, M. ; Riester, J.L. ; Roe, S. ; Rott, C. ; Rousseau, L. ; Rudge, A. ; Russ, J. ; Sala, S. ; Sampietro, M. ; Schnetzer, S. ; Sciortino, S. ; Stelzer, H. ; Stone, R. ; Suter, B. ; Tapper, R.J. ; Tesarek, R. ; Trischuk, W. ; Tromson, D. ; Vittone, E. ; Wedenig, R. ; Weilhammer, P. ; White, C. ; Zeuner, W. ; Zoeller, M.Nuclear instruments & methods in physics research. Section A, Accelerators, spectrometers, detectors and associated equipment, 2001-06, Vol.465 (1), p.88-91 [Periódico revisado por pares]Elsevier B.VTexto completo disponível |
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Material Type: Artigo
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High Electric Field Induced Degradation of the DC Characteristics in Si/SiGe HEMT’sKuchenbecker, J. ; Borgarino, M. ; Zeuner, M. ; König, U. ; Plana, R. ; Fantini, F.Microelectronics and reliability, 2003-09, Vol.43 (9), p.1719-1723 [Periódico revisado por pares]Elsevier LtdTexto completo disponível |
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Material Type: Ata de Congresso
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Ion Beam Figuring (IBF) for high Precision Optics becomes affordableKIONTKE, Sven ; DEMMLER, Marcel ; ZEUNER, Michael ; ALLENSTEIN, Frank ; DUNGER, Thoralf ; NESTLER, MatthiasProceedings of SPIE, the International Society for Optical Engineering, 2010, Vol.7786Bellingham, Wash: SPIETexto completo disponível |
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Material Type: Ata de Congresso
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Long-range correlations and the random mass Dirac model on an integrated optical platformKeil, R. ; Zeuner, J. M. ; Dreisow, F. ; Heinrich, M. ; Tunnermann, A. ; Nolte, S. ; Szameit, A.2013 Conference on Lasers & Electro-Optics Europe & International Quantum Electronics Conference CLEO EUROPE/IQEC, 2013, p.1-1IEEETexto completo disponível |
8 |
Material Type: Artigo
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Micro-strip sensors based on CVD diamondAdam, W ; Berdermann, E ; Bergonzo, P ; Bertuccio, G ; Bogani, F ; Borchi, E ; Brambilla, A ; Bruzzi, M ; Colledani, C ; Conway, J ; D'Angelo, P ; Dabrowski, W ; Delpierre, P ; Deneuville, A ; Dulinski, W ; van Eijk, B ; Fallou, A ; Fizzotti, F ; Foulon, F ; Friedl, M ; Gan, K.K ; Gheeraert, E ; Hallewell, G ; Han, S ; Hartjes, F ; Hrubec, J ; Husson, D ; Kagan, H ; Kania, D ; Kaplon, J ; Kass, R ; Koeth, T ; Krammer, M ; Logiudice, A ; Lu, R ; mac Lynne, L ; Manfredotti, C ; Meier, D ; Mishina, M ; Moroni, L ; Oh, A ; Pan, L.S ; Pernicka, M ; Peitz, A ; Perera, L ; Pirollo, S ; Procario, M ; Riester, J.L ; Roe, S ; Rousseau, L ; Rudge, A ; Russ, J ; Sala, S ; Sampietro, M ; Schnetzer, S ; Sciortino, S ; Stelzer, H ; Stone, R ; Suter, B ; Tapper, R.J ; Tesarek, R ; Trischuk, W ; Tromson, D ; Vittone, E ; Walsh, A.M ; Wedenig, R ; Weilhammer, P ; Wetstein, M ; White, C ; Zeuner, W ; Zoeller, MNuclear instruments & methods in physics research. Section A, Accelerators, spectrometers, detectors and associated equipment, 2000-10, Vol.453 (1), p.141-148 [Periódico revisado por pares]Elsevier B.VTexto completo disponível |
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Material Type: Artigo
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Mo/Si multilayers for EUV lithography by ion beam sputter depositionChassé, T. ; Neumann, H. ; Ocker, B. ; Scherer, M. ; Frank, W. ; Frost, F. ; Hirsch, D. ; Schindler, A. ; Wagner, G. ; Lorenz, M. ; Otto, G. ; Zeuner, M. ; Rauschenbach, B.Vacuum, 2003-05, Vol.71 (3), p.407-415 [Periódico revisado por pares]Oxford: Elsevier LtdTexto completo disponível |
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Material Type: Ata de Congresso
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Negative coupling between two defect waveguides embedded in an arrayZeuner, J. M. ; Rechtsman, M. C. ; Keil, R. ; Dreisow, F. ; Tunnermann, A. ; Nolte, S. ; Szameit, A.2012 Conference on Lasers and Electro-Optics (CLEO), 2012, p.1-2IEEETexto completo disponível |