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1
0-3 nanocomposites for optoelectronics and nonlinear optics
0-3 nanocomposites for optoelectronics and nonlinear optics
Material Type:
Ata de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

0-3 nanocomposites for optoelectronics and nonlinear optics

Yao, Xi ; Zhang, Liangying ; Liu, Chunliang

SPIE 1994

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2
0.1-μm high-aspect-ratio pattern replication and linewidth control
0.1-μm high-aspect-ratio pattern replication and linewidth control
Material Type:
Ata de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

0.1-μm high-aspect-ratio pattern replication and linewidth control

Chen, Zheng ; Vladimirsky, Yuli ; Cerrina, Franco ; Lai, Barry P ; Yun, Wenbing ; Gluskin, Efim S

SPIE proceedings series, 1998, Vol.3331, p.591-600

Bellingham WA: SPIE

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3
0.11-μm imaging in KrF lithography using dipole illumination
0.11-μm imaging in KrF lithography using dipole illumination
Material Type:
Ata de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

0.11-μm imaging in KrF lithography using dipole illumination

Eurlings, Mark ; van Setten, Eelco ; Torres, Juan Andres ; Dusa, Mircea V ; Socha, Robert J ; Capodieci, Luigi ; Finders, Jo

SPIE proceedings series, 2001, Vol.4404, p.266-278

Bellingham WA: SPIE

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Citações Citado por
4
0.12 micron logic process using a 248 nm step-and-scan system
0.12 micron logic process using a 248 nm step-and-scan system
Material Type:
Ata de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

0.12 micron logic process using a 248 nm step-and-scan system

BAKER, Dan ; ZHENG, Tammy ; TAKEMOTO, Cliff ; SETHI, Satyendra ; GABRIEL, Calvin ; SCOTT, Greg

SPIE proceedings series, 2000, p.294-304

Bellingham WA: SPIE

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5
0.15-μm pattern formation using cell projection electron-beam direct writing with variable shot size
0.15-μm pattern formation using cell projection electron-beam direct writing with variable shot size
Material Type:
Ata de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

0.15-μm pattern formation using cell projection electron-beam direct writing with variable shot size

Tamura, Takao ; Yamashita, Hiroshi ; Nakajima, Ken ; Nozue, Hiroshi

SPIE proceedings series, 1997, Vol.3048, p.54-62

Bellingham WA: SPIE

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6
0.18-μm optical lithography performances using an alternating DUV phase-shift mask
0.18-μm optical lithography performances using an alternating DUV phase-shift mask
Material Type:
Ata de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

0.18-μm optical lithography performances using an alternating DUV phase-shift mask

Trouiller, Yorick ; Buffet, N ; Mourier, Thierry ; Schiavone, Patrick ; Quere, Yves

SPIE proceedings series, 1998, Vol.3334, p.25-35

Bellingham WA: SPIE

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7
0.18μm Gate length CMOS devices with N+ polycide gate for 2.5V application
0.18μm Gate length CMOS devices with N+ polycide gate for 2.5V application
Material Type:
Ata de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

0.18μm Gate length CMOS devices with N+ polycide gate for 2.5V application

JEONG YEOL CHOI ; ZHANG, E ; HAN, C.-C

SPIE proceedings series, 1997, p.220-225

Bellingham WA: SPIE

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8
0.25-μm multilevel interconnect with DUV processing
0.25-μm multilevel interconnect with DUV processing
Material Type:
Ata de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

0.25-μm multilevel interconnect with DUV processing

Krisa, William L ; Shaw, Sonya Y ; Brennan, Ken ; Dixit, Girish A ; Jain, Manoj K

SPIE 1997

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9
0.25-μm technology arithmetic codec for mobile multimedia communicators
0.25-μm technology arithmetic codec for mobile multimedia communicators
Material Type:
Ata de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

0.25-μm technology arithmetic codec for mobile multimedia communicators

Alvarez, Alberto ; Lopez, Sebastian ; Lopez, Jose F ; Sarmiento, Roberto

SPIE proceedings series, 2003, Vol.5117, p.361-369

Bellingham WA: SPIE

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10
0.25μm logic manufacturability using practical 2-D Optical proximity correction
0.25μm logic manufacturability using practical 2-D Optical proximity correction
Material Type:
Ata de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

0.25μm logic manufacturability using practical 2-D Optical proximity correction

KLING, M ; LUCAS, K ; WEST, J ; REICH, A ; ROMAN, B ; CHUANG, H ; GILBERT, P ; GROBMAN, W ; TRAVIS, E ; TSUI, P ; VUONG, T

SPIE proceedings series, 1998, p.204-214

Bellingham WA: SPIE

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  2. 1994Até2000  (52.553)
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  4. 2008Até2015  (3.832)
  5. Após 2015  (17)
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