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1
Gerador de RF para equipamento de corrosão por plasma
Gerador de RF para equipamento de corrosão por plasma
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Gerador de RF para equipamento de corrosão por plasma

W J Freitas Edson Benedicto Ramos Feris; Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletrônica (2. 1987 São Paulo)

Anais São Paulo : Sbmicro/Epusp, 1987

São Paulo Sbmicro/Epusp 1987

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2
Otimização da taxa, uniformidade e seletividade na corrosão a seco de filmes de sio2 em plasmas de cf4 e cf+o2
Otimização da taxa, uniformidade e seletividade na corrosão a seco de filmes de sio2 em plasmas de cf4 e cf+o2
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Otimização da taxa, uniformidade e seletividade na corrosão a seco de filmes de sio2 em plasmas de cf4 e cf+o2

Antonio Carlos Seabra 1961- I C Braz; C Rodrigues Neto; Congresso da Sociedade Brasileira de Microeletronica (3. 1988 São Paulo)

Anais São Paulo : Sbmicro/Epusp, 1988

São Paulo Sbmicro/Epusp 1988

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3
Brasil desenvolve tecnologia do plasma
Brasil desenvolve tecnologia do plasma
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Brasil desenvolve tecnologia do plasma

Wilson da Costa Bueno 1948-

Tecnologia em Revista São Paulo v. 1, n. 2, p. 41-42, jul./ago. 1989

São Paulo 1989

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4
Brasil desenvolve tecnologia do plasma
Brasil desenvolve tecnologia do plasma
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Brasil desenvolve tecnologia do plasma

Wilson da Costa Bueno 1948-

Tecnologia em Revista São Paulo v. 1, n. 2, p. 41-42, jul./ago. 1989

São Paulo 1989

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5
Células solares de silício semicristalino tratadas em plasma rf de hidrogênio
Células solares de silício semicristalino tratadas em plasma rf de hidrogênio
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Células solares de silício semicristalino tratadas em plasma rf de hidrogênio

Maria Aparecida Godoy Soler Pajanian Inés Pereyra 1947-; Adnei Melges de Andrade 1943-

Sao Paulo : Epusp, 1989 Coletanea epusp, 2/89 Contribuicoes a Engenharia de Eletricidade

São Paulo Epusp 1989

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6
Uma avaliação de estratégias em plasma térmico para o IPT
Uma avaliação de estratégias em plasma térmico para o IPT
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Uma avaliação de estratégias em plasma térmico para o IPT

Abraham Sin Oih Yu Vladimir Amâncio de Abreu; Milton de Abreu Campanário

São Paulo Instituto de Pesquisas Tecnológicas do Estado de São Paulo S.A. 1991

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7
Propagacao nao estacionaria de ondas ion-acusticas nao lineares num plasma com ions negativos
Propagacao nao estacionaria de ondas ion-acusticas nao lineares num plasma com ions negativos
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Propagacao nao estacionaria de ondas ion-acusticas nao lineares num plasma com ions negativos

H. S. Maciel M Uehara; Congresso Brasileiro de Aplicacoes de Vacuo Na Industria e Na Ciencia (13. 1992 Campinas); Encontro Latino-Americano sobre Plasmas Frios (1. 1992 Campinas)

Resumos Campinas : Unicamp, 1992

Campinas Unicamp 1992

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8
Silicon surface roughening induced by c 'BR''F IND.3' plasma during the reactive ion etching
Silicon surface roughening induced by c 'BR''F IND.3' plasma during the reactive ion etching
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Artículo de Congreso 		Añadir a Mi Portal

Silicon surface roughening induced by c 'BR''F IND.3' plasma during the reactive ion etching

R K Yamamoto M C V Lopes; C T Akamine; Sebastião Gomes dos Santos Filho 1962-; Claus Martin Hasenack; Congresso Brasileiro de Engenharia e Ciencia dos Materiais (10. 1992 Águas de Lindóia, SP)

Cbecimat: Anais Campinas : Unicamp, 1992

Campinas Unicamp 1992

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9
Plasmas frios aspectos de aplicacoes tecnologicas
Plasmas frios aspectos de aplicacoes tecnologicas
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Plasmas frios aspectos de aplicacoes tecnologicas

H. S. Maciel Congresso Brasileiro de Aplicacoes de Vacuo Na Industria e Na Ciencia (13. 1992 Campinas); Encontro Latino-Americano sobre Plasmas Frios (1. 1992 Campinas)

Resumos Campinas : Unicamp, 1992

Campinas Unicamp 1992

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10
A comparative study of single and double langmuir probe techniques for RF plasma characterization
A comparative study of single and double langmuir probe techniques for RF plasma characterization
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A comparative study of single and double langmuir probe techniques for RF plasma characterization

Raul Murete de Castro Giuseppe Antonio Cirino; Patrick Bernard Verdonck 1958-; Homero Santiago Maciel; Marcos Massi; M B Pisani; Ronaldo Domingues Mansano 1964-

Contributions to plasma physics Berlin v.39, n.3, p.235-246, 1999

Berlin 1999

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