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Refinado por: Nome da Publicação: Thin Solid Films remover
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0.10 μm TiSi 2 technology utilizing nitrogen diffusion controlled RTA
0.10 μm TiSi 2 technology utilizing nitrogen diffusion controlled RTA
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0.10 μm TiSi 2 technology utilizing nitrogen diffusion controlled RTA

Matsubara, Y. ; Sakai, T. ; Ishigami, T. ; Ando, K. ; Horiuchi, T.

Thin solid films, 1995, Vol.270 (1), p.537-543 [Periódico revisado por pares]

Elsevier B.V

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2
0.10 μm TiSi2 technology utilizing nitrogen diffusion controlled RTA
0.10 μm TiSi2 technology utilizing nitrogen diffusion controlled RTA
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0.10 μm TiSi2 technology utilizing nitrogen diffusion controlled RTA

MATSUBARA, Y ; SAKAI, T ; ISHIGAMI, T ; ANDO, K ; HORIUCHI, T

Thin solid films, 1995-12, Vol.270 (1-2), p.537-543 [Periódico revisado por pares]

Lausanne: Elsevier Science

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3
0.8 μm wavelength integrated photoreceiver: improvement using a special hetero-epitaxy suitable for high electron mobility transistor fabrication
0.8 μm wavelength integrated photoreceiver: improvement using a special hetero-epitaxy suitable for high electron mobility transistor fabrication
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0.8 μm wavelength integrated photoreceiver: improvement using a special hetero-epitaxy suitable for high electron mobility transistor fabrication

Gouy, J.P. ; Vilcot, J.P. ; Lorriaux, J.L. ; Raczy, L. ; Decoster, D.

Thin solid films, 1989-05, Vol.172 (1), p.L59-L63 [Periódico revisado por pares]

Lausanne: Elsevier B.V

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4
1 MeV electron irradiation induced degradation of boron-doped strained Si 1− xGe x layers
1 MeV electron irradiation induced degradation of boron-doped strained Si 1− xGe x layers
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1 MeV electron irradiation induced degradation of boron-doped strained Si 1− xGe x layers

Vanhellemont, J. ; Trauwaert, M.-A. ; Poortmans, J. ; Caymax, M. ; Clauws, P.

Thin solid films, 1992, Vol.222 (1), p.166-172 [Periódico revisado por pares]

Elsevier B.V

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5
1 MEV ELECTRON-IRRADIATION INDUCED DEGRADATION OF BORON-DOPED STRAINED SI1-XGEX LAYERS
1 MEV ELECTRON-IRRADIATION INDUCED DEGRADATION OF BORON-DOPED STRAINED SI1-XGEX LAYERS
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1 MEV ELECTRON-IRRADIATION INDUCED DEGRADATION OF BORON-DOPED STRAINED SI1-XGEX LAYERS

VANHELLEMONT, J ; TRAUWAERT, MA ; POORTMANS, J ; CAYMAX, M ; CLAUWS, P

Thin solid films, 1992-12, Vol.222 (1-2), p.166-172 [Periódico revisado por pares]

LAUSANNE 1: Elsevier

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6
1 MHz quartz length extension resonator as a probe for scanning near-field acoustic microscopy
1 MHz quartz length extension resonator as a probe for scanning near-field acoustic microscopy
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1 MHz quartz length extension resonator as a probe for scanning near-field acoustic microscopy

Michels, A. ; Meinen, F. ; Murdfield, T. ; Göhde, W. ; Fischer, U.C. ; Beckmann, E. ; Fuchs, H.

Thin solid films, 1995-08, Vol.264 (2), p.172-175 [Periódico revisado por pares]

Lausanne: Elsevier B.V

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7
100 keV proton channeling in anodically oxidized nickel crystals
100 keV proton channeling in anodically oxidized nickel crystals
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100 keV proton channeling in anodically oxidized nickel crystals

Roulet, M. ; Jaccard, C. ; Rudolf, F.

Thin solid films, 1977-07, Vol.44 (2), p.163-168 [Periódico revisado por pares]

Elsevier B.V

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8
100th volume of thin solid films
100th volume of thin solid films
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100th volume of thin solid films

Zemel, J.N.

Thin solid films, 1982-02, Vol.88 (1), p.v-v [Periódico revisado por pares]

Elsevier B.V

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9
1,2-Dielaidoylphosphocholine/1,2-dimyristoylphosphoglycerol supported phospholipid bilayer formation in calcium and calcium-free buffer
1,2-Dielaidoylphosphocholine/1,2-dimyristoylphosphoglycerol supported phospholipid bilayer formation in calcium and calcium-free buffer
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1,2-Dielaidoylphosphocholine/1,2-dimyristoylphosphoglycerol supported phospholipid bilayer formation in calcium and calcium-free buffer

Evans, Kervin O.

Thin solid films, 2012-01, Vol.520 (7), p.3026-3030 [Periódico revisado por pares]

Amsterdam: Elsevier B.V

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10
1,2,4-Triazole as a corrosion inhibitor in copper chemical mechanical polishing
1,2,4-Triazole as a corrosion inhibitor in copper chemical mechanical polishing
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1,2,4-Triazole as a corrosion inhibitor in copper chemical mechanical polishing

Jiang, Liang ; Lan, Yongqing ; He, Yongyong ; Li, Yan ; Li, Yuzhuo ; Luo, Jianbin

Thin solid films, 2014-04, Vol.556, p.395-404 [Periódico revisado por pares]

Amsterdam: Elsevier B.V

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