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1
Forces of Secularity in the Modern World
Forces of Secularity in the Modern World
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Forces of Secularity in the Modern World

Stephen Strehle

Peter Lang International Academic Publishing Group 2018

Acesso online

2
The Catholic roots of the Protestant Gospel encounter between the Middle Ages and the Reformation
The Catholic roots of the Protestant Gospel encounter between the Middle Ages and the Reformation
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Livro 		Adicionar ao Meu Espaço

The Catholic roots of the Protestant Gospel encounter between the Middle Ages and the Reformation

Stephen Strehle 1952-

Leiden E.J. Brill New York 1995

Localização: FFLCH - Fac. Fil. Let. e Ciências Humanas    (189 S933 v.60 )(Acessar)

3
Aligned deposition of bottom-up grown nanowires by two-directional pressure-controlled contact printing
Aligned deposition of bottom-up grown nanowires by two-directional pressure-controlled contact printing
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Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

Aligned deposition of bottom-up grown nanowires by two-directional pressure-controlled contact printing

Salimitari, P ; Behroudj, A ; Strehle, S

Nanotechnology, 2022-06, Vol.33 (23), p.235301 [Periódico revisado por pares]

England: IOP Publishing

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4
Exploring nanowire regrowth for the integration of bottom-up grown silicon nanowires into AFM scanning probes
Exploring nanowire regrowth for the integration of bottom-up grown silicon nanowires into AFM scanning probes
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Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

Exploring nanowire regrowth for the integration of bottom-up grown silicon nanowires into AFM scanning probes

Behroudj, A ; Salimitari, P ; Nilsen, M ; Strehle, S

Journal of micromechanics and microengineering, 2021-05, Vol.31 (5), p.55010 [Periódico revisado por pares]

Texto completo disponível

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5
Surface-controlled contact printing for nanowire device fabrication on a large scale
Surface-controlled contact printing for nanowire device fabrication on a large scale
Material Type:
Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

Surface-controlled contact printing for nanowire device fabrication on a large scale

Roßkopf, D ; Strehle, S

Nanotechnology, 2016-05, Vol.27 (18), p.185301-185301 [Periódico revisado por pares]

England: IOP Publishing

Texto completo disponível

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6
Thermal oxidation synthesis of crystalline iron-oxide nanowires on low-cost steel substrates for solar water splitting
Thermal oxidation synthesis of crystalline iron-oxide nanowires on low-cost steel substrates for solar water splitting
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Thermal oxidation synthesis of crystalline iron-oxide nanowires on low-cost steel substrates for solar water splitting

Dlugosch, T ; Chnani, A ; Muralidhar, P ; Schirmer, A ; Biskupek, J ; Strehle, S

Semiconductor science and technology, 2017-08, Vol.32 (8), p.84001 [Periódico revisado por pares]

IOP Publishing

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7
The mechanisms of platinum-catalyzed silicon nanowire growth
The mechanisms of platinum-catalyzed silicon nanowire growth
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Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

The mechanisms of platinum-catalyzed silicon nanowire growth

Hibst, N ; Knittel, P ; Biskupek, J ; Kranz, C ; Mizaikoff, B ; Strehle, S

Semiconductor science and technology, 2015-12, Vol.31 (2), p.25005 [Periódico revisado por pares]

IOP Publishing

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8
Beam-deposited platinum as versatile catalyst for bottom-up silicon nanowire synthesis
Beam-deposited platinum as versatile catalyst for bottom-up silicon nanowire synthesis
Material Type:
Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

Beam-deposited platinum as versatile catalyst for bottom-up silicon nanowire synthesis

Hibst, N. ; Knittel, P. ; Kranz, C. ; Mizaikoff, B. ; Strehle, S.

Applied physics letters, 2014-10, Vol.105 (15) [Periódico revisado por pares]

Melville: American Institute of Physics

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9
Electrical properties of electroplated Cu(Ag) thin films
Electrical properties of electroplated Cu(Ag) thin films
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Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

Electrical properties of electroplated Cu(Ag) thin films

Strehle, S. ; Bartha, J.W. ; Wetzig, K.

Thin solid films, 2009-04, Vol.517 (11), p.3320-3325 [Periódico revisado por pares]

Amsterdam: Elsevier B.V

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10
A study of imprint and etching behavior on fused silica of a new tailored resist mr-NIL213FC for soft UV-NIL
A study of imprint and etching behavior on fused silica of a new tailored resist mr-NIL213FC for soft UV-NIL
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Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

A study of imprint and etching behavior on fused silica of a new tailored resist mr-NIL213FC for soft UV-NIL

Si, Shuhao ; Weigel, C. ; Messerschmidt, M. ; Thesen, M.W. ; Sinzinger, S. ; Strehle, S.

Micro and Nano Engineering, 2020-04, Vol.6, p.100047, Article 100047 [Periódico revisado por pares]

Elsevier B.V

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  1. Strehle, S

Neste Assunto:

  1. Science & Technology
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  • Realização: ABCD-USP USP   Logos de Redes Sociais: Freepik

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