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0.15-mu m RF CMOS technology compatible with logic CMOS forlow-voltage operation
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0.15-mu m RF CMOS technology compatible with logic CMOS forlow-voltage operation

Saito, M ; Ono, M ; Fujimoto, R ; Tanimoto, H ; Ito, N ; Yoshitomi, T ; Ohguro, T ; Momose, H S ; Iwai, H

IEEE transactions on electron devices, 1998-03, Vol.45 (3), p.737-742 [Periódico revisado por pares]

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0.15-/spl mu/m RF CMOS technology compatible with logic CMOS for low-voltage operation
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0.15-/spl mu/m RF CMOS technology compatible with logic CMOS for low-voltage operation

Saito, M. ; Ono, M. ; Fujimoto, R. ; Tanimoto, H. ; Ito, N. ; Yoshitomi, T. ; Ohguro, T. ; Momose, H.S. ; Iwai, H.

IEEE transactions on electron devices, 1998-03, Vol.45 (3), p.737-742 [Periódico revisado por pares]

IEEE

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0.15-μm n-n gate CMOS technology with channel selective epitaxy and transient enhanced diffusion suppression
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0.15-μm n-n gate CMOS technology with channel selective epitaxy and transient enhanced diffusion suppression

Abiko, Hitoshi ; Ono, Atsuki ; Ueno, Ryuuichi ; Masuoka, Sadaaki ; Shishiguchi, Seiichi ; Nakajima, Ken ; Sakai, Isami

Electronics & communications in Japan. Part 2, Electronics, 1996, Vol.79 (11), p.28-35 [Periódico revisado por pares]

New York: Wiley Subscription Services, Inc., A Wiley Company

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0.15-μm RF CMOS technology compatible with logic CMOS for low-voltage operation
0.15-μm RF CMOS technology compatible with logic CMOS for low-voltage operation
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0.15-μm RF CMOS technology compatible with logic CMOS for low-voltage operation

Saito, M. ; Ono, M. ; Fujimoto, R. ; Tanimoto, H. ; Ito, N. ; Yoshitomi, T. ; Ohguro, T. ; Momose, H.S. ; Iwai, H.

IEEE transactions on electron devices, 1998-03, Vol.45 (3), p.737-742 [Periódico revisado por pares]

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0.1%C-2%Si-5%Mn超微細フェライト+オーステナイト鋼の短時間組織形成と力学的特性に及ぼす二相域焼鈍前組織の影響
0.1%C-2%Si-5%Mn超微細フェライト+オーステナイト鋼の短時間組織形成と力学的特性に及ぼす二相域焼鈍前組織の影響
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0.1%C-2%Si-5%Mn超微細フェライト+オーステナイト鋼の短時間組織形成と力学的特性に及ぼす二相域焼鈍前組織の影響

安達, 節展 ; 鳥塚, 史郎 ; 足立, 大樹 ; 伊東, 篤志

鉄と鋼, 2019, Vol.105(2), pp.197-206 [Periódico revisado por pares]

一般社団法人 日本鉄鋼協会

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0.2C-1.5Si-1.2Mn鋼のTRIP効果におよぼすひずみ速度の影響
0.2C-1.5Si-1.2Mn鋼のTRIP効果におよぼすひずみ速度の影響
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0.2C-1.5Si-1.2Mn鋼のTRIP効果におよぼすひずみ速度の影響

土田, 紀之 ; 尾﨑, 渓香

鉄と鋼, 2013, Vol.99(8), pp.524-531 [Periódico revisado por pares]

一般社団法人 日本鉄鋼協会

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0.43 J, 10 Hz Fourth Harmonic Generation of Nd:YAG Laser Using Large Li2B4O7 Crystals
0.43 J, 10 Hz Fourth Harmonic Generation of Nd:YAG Laser Using Large Li2B4O7 Crystals
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0.43 J, 10 Hz Fourth Harmonic Generation of Nd:YAG Laser Using Large Li2B4O7 Crystals

Suzuki, Yuji ; Ono, Shingo ; Murakami, Hidetoshi ; Kozeki, Toshimasa ; Ohtake, Hideyuki ; Sarukura, Nobuhiko ; Masada, Genta ; Shiraishi, Hiroyuki ; Sekine, Ichiro

Japanese Journal of Applied Physics, 2002-07, Vol.41 (Part 2, No. 7B), p.L823-L824 [Periódico revisado por pares]

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0.5-V 25-nm 6-T Cell with Boosted Word Voltage for 1-Gb SRAMs
0.5-V 25-nm 6-T Cell with Boosted Word Voltage for 1-Gb SRAMs
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0.5-V 25-nm 6-T Cell with Boosted Word Voltage for 1-Gb SRAMs

KOTABE, Akira ; ITOH, Kiyoo ; TAKEMURA, Riichiro

IEICE Transactions on Electronics, 2012/04/01, Vol.E95.C(4), pp.555-563 [Periódico revisado por pares]

The Institute of Electronics, Information and Communication Engineers

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0.54 [mu]m resolution two-photon interference with dispersion cancellation for quantum optical coherence tomography
0.54 [mu]m resolution two-photon interference with dispersion cancellation for quantum optical coherence tomography
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0.54 [mu]m resolution two-photon interference with dispersion cancellation for quantum optical coherence tomography

Okano, Masayuki ; Lim, Hwan Hong ; Okamoto, Ryo ; Nishizawa, Norihiko ; Kurimura, Sunao ; Takeuchi, Shigeki

Scientific reports, 2015-12, Vol.5, p.18042 [Periódico revisado por pares]

London: Nature Publishing Group

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0.54 μm resolution two-photon interference with dispersion cancellation for quantum optical coherence tomography
0.54 μm resolution two-photon interference with dispersion cancellation for quantum optical coherence tomography
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0.54 μm resolution two-photon interference with dispersion cancellation for quantum optical coherence tomography

Okano, Masayuki ; Lim, Hwan Hong ; Okamoto, Ryo ; Nishizawa, Norihiko ; Kurimura, Sunao ; Takeuchi, Shigeki

Scientific reports, 2015-12, Vol.5 (1), p.18042-18042, Article 18042 [Periódico revisado por pares]

England: Nature Publishing Group

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Autor/Criador 

  1. Ono, R  (254)
  2. Ono, C  (85)
  3. Buchpiguel, C  (69)
  4. Ornstein, S  (62)
  5. Sapienza, M  (53)
  6. Watanabe, T  (49)
  7. Carrilho, F  (36)
  8. Costa, P  (30)
  9. Ono, S  (28)
  10. Cerri, G  (26)
  11. Rocha, R  (24)
  12. Ono, W  (23)
  13. Silva, L  (20)
  14. Hironaka, F  (20)
  15. França, A  (17)
  16. Nita, S  (17)
  17. Oliveira, F  (17)
  18. Pinho, J  (17)
  19. Crema, E  (16)
  20. Ono, L  (15)
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Data de Publicação 

De até
Refinar
  1. Antes de1958  (18.225)
  2. 1958Até1973  (7.793)
  3. 1974Até1989  (19.680)
  4. 1990Até2006  (88.900)
  5. Após 2006  (305.606)
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Idioma 

  1. Inglês  (415.519)
  2. Japonês  (102.680)
  3. Polonês  (5.873)
  4. Português  (4.225)
  5. Alemão  (1.958)
  6. Espanhol  (1.955)
  7. Croatian  (1.763)
  8. Francês  (792)
  9. Italiano  (777)
  10. Bósnio  (314)
  11. Serbian  (302)
  12. Tcheco  (286)
  13. Eslovaco  (231)
  14. Russo  (227)
  15. Chinês  (178)
  16. Turco  (177)
  17. Norueguês  (123)
  18. Esloveno  (105)
  19. Holandês  (44)
  20. Lituano  (32)
  21. Indeterminado  (1)
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Deste Autor:

  1. Ono, R
  2. Ono, C
  3. Buchpiguel, C
  4. Ornstein, S
  5. Sapienza, M

Neste Assunto:

  1. Science & Technology
  2. Life Sciences & Biomedicine
  3. Humans
  4. Physical Sciences
  5. Animals

  • Realização: ABCD-USP USP   Logos de Redes Sociais: Freepik

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