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1
Fabrication of transparent conductive thin films based on multi-walled carbon nanotubes
Fabrication of transparent conductive thin films based on multi-walled carbon nanotubes
Material Type:
Artigo de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Fabrication of transparent conductive thin films based on multi-walled carbon nanotubes

Igor Yamamoto Abe Inés Pereyra 1947-; International Symposium on Microelectronics Technology and Devices (27th 2012 Brasilia)

Microelectronics technology and devices, SBMicro Pennington: Electrochemical Society, 2012

Pennington 2012

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2
Síntese de nanotubos de carbono pela técnica de deposição química a vapor
Síntese de nanotubos de carbono pela técnica de deposição química a vapor
Material Type:
Dissertação de Mestrado 		Adicionar ao Meu Espaço

Síntese de nanotubos de carbono pela técnica de deposição química a vapor

Abê, Igor Yamamoto

Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da USP; Universidade de São Paulo; Escola Politécnica 2014-07-31

Acesso online. A biblioteca também possui exemplares impressos.

3
Control of the refractive index in PECVD SiOxNy films
Control of the refractive index in PECVD SiOxNy films
Material Type:
Artigo de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Control of the refractive index in PECVD SiOxNy films

Marco Isaías Alayo Chávez 1971- Inés Pereyra 1947-; Wanderla Luis Scopel; Márcia Carvalho de Abreu Fantini; International Conference on Microelectronics and Packaging (15. 2000 Manaus)

SBMicro 2000 : proceedings Manaus : SBMicro/UA/UFRGS/UNICAMP/USP, 2000

Manaus SBMicro/UA/UFRGS/UNICAMP/USP 2000

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4
Optical waveguides of PECVD silicon oxynitride films
Optical waveguides of PECVD silicon oxynitride films
Material Type:
Artigo de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Optical waveguides of PECVD silicon oxynitride films

Marco Isaías Alayo Chávez 1971- Inés Pereyra 1947-; Wanderla Luis Scopel; Márcia Carvalho de Abreu Fantini; Encontro da Sociedade Brasileira de Pesquisa em Materiais (1. 2002 Rio de Janeiro)

Programa e Livro de Resumos Rio de Janeiro : SBPMat, 2002

Rio de Janeiro SBPMat 2002

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5
Deposição e caracterização de filmes de 'SI''O IND.2' crescidos pela técnica de pecvd a baixa temperatura
Deposição e caracterização de filmes de 'SI''O IND.2' crescidos pela técnica de pecvd a baixa temperatura
Material Type:
Dissertação de Mestrado 		Adicionar ao Meu Espaço

Deposição e caracterização de filmes de 'SI''O IND.2' crescidos pela técnica de pecvd a baixa temperatura

Marco Isaías Alayo Chávez 1971- Inés Pereyra 1947-

1996

Localização: EPBC - Esc. Politécnica-Bib Central    (FD-1924 ) e outros locais(Acessar)

6
Estudo e otimização das propriedades estruturais, ópticas e elétricas de películas de SiOxNy depositadas por PECVD para aplicações em dispositivos MOS, microestruturas e guias de onda
Estudo e otimização das propriedades estruturais, ópticas e elétricas de películas de SiOxNy depositadas por PECVD para aplicações em dispositivos MOS, microestruturas e guias de onda
Material Type:
Tese de Doutorado 		Adicionar ao Meu Espaço

Estudo e otimização das propriedades estruturais, ópticas e elétricas de películas de SiOxNy depositadas por PECVD para aplicações em dispositivos MOS, microestruturas e guias de onda

Marco Isaías Alayo Chávez 1971- Inés Pereyra 1947-

2000

Localização: EPBC - Esc. Politécnica-Bib Central    (FT-1509 )(Acessar)

7
On the nitrogen and oxygen incorporation in plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) SiOxNy films
On the nitrogen and oxygen incorporation in plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) SiOxNy films
Material Type:
Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

On the nitrogen and oxygen incorporation in plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) SiOxNy films

Marco Isaías Alayo Chávez 1971- Inés Pereyra 1947-; Wanderla Luis Scopel; Márcia Carvalho de Abreu Fantini

Thin Solid Films Lausanne v. 402, n. 1-2, p. 154-161, 2002

Lausanne 2002

Acesso online

8
On the nitrogen and oxygen incorporation in plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) SiOxNy films
On the nitrogen and oxygen incorporation in plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) SiOxNy films
Material Type:
Artigo 		Adicionar ao Meu Espaço

On the nitrogen and oxygen incorporation in plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) SiOxNy films

Marco Isaías Alayo Chávez 1971- Inés Pereyra 1947-; Wanderla Luis Scopel; Márcia Carvalho de Abreu Fantini

Thin Solid Films Lausanne v. 402, n. 1-2, p. 154-161, 2002

Lausanne 2002

Acesso online

9
Influence of deposition parameters at the structural characteristics of silicon dioxide deposited by pecvd at low temperatures
Influence of deposition parameters at the structural characteristics of silicon dioxide deposited by pecvd at low temperatures
Material Type:
Artigo de Congresso 		Adicionar ao Meu Espaço

Influence of deposition parameters at the structural characteristics of silicon dioxide deposited by pecvd at low temperatures

Marco Isaías Alayo Chávez 1971- Inés Pereyra 1947-; Conference of the Brazilian Microeletronics Society (11th 1996 Águas de Lindóia)

Proceedings São Paulo : Sbmicro, 1996

São Paulo Sbmicro 1996

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10
Estudo e fabricação de capacitores MOS com camada isolante de SiOxNy depositada por PECVD.
Estudo e fabricação de capacitores MOS com camada isolante de SiOxNy depositada por PECVD.
Material Type:
Dissertação de Mestrado 		Adicionar ao Meu Espaço

Estudo e fabricação de capacitores MOS com camada isolante de SiOxNy depositada por PECVD.

Albertin, Katia Franklin

Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da USP; Universidade de São Paulo; Escola Politécnica 2003-04-03

Acesso online. A biblioteca também possui exemplares impressos.

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Deste Autor:

  1. Pereyra, I
  2. Fantini, M
  3. Páez Carreño, M
  4. Alayo Chávez, M
  5. Andrade, A

Neste Assunto:

  1. Filmes Finos
  2. Células Solares
  3. Matéria Condensada
  4. Microeletrônica
  5. Silício

  • Realização: ABCD-USP USP   Logos de Redes Sociais: Freepik

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